Τι είναι το Tantalum Carbide (TAC)？

Tantalum Carbide (TAC)είναι μια δυαδική ένωση του ταντάλου (ΤΑ) και του άνθρακα (C), με τον χημικό τύπο να εκφράζεται συνήθως ως TACₓ (όπου το x κυμαίνεται από 0,4 έως 1). Κατατάσσεται ως ανθεκτικό κεραμικό υλικό με εξαιρετική σκληρότητα, σταθερότητα υψηλής θερμοκρασίας και μεταλλική αγωγιμότητα.

1 δομή καρβιδίου tantalum

1.1 Χημική σύνθεση και κρυσταλλική δομή

Το καρβίδιο του ταντάλου είναι μια δυαδική κεραμική ένωση που αποτελείται από ταντάλιο (ΤΑ) και άνθρακα (C).

Η κρυσταλλική δομή του είναι κυβική (FCC), η οποία του δίνει εξαιρετική σκληρότητα και σταθερότητα.

1,2 ιδιότητες συγκόλλησης

Η ισχυρή ομοιοπολική συγκόλληση καθιστά το καρβίδιο tantalum εξαιρετικά σκληρό και ανθεκτικό στην παραμόρφωση.

Το TAC έχει εξαιρετικά χαμηλό συντελεστή διάχυσης και παραμένει σταθερός ακόμη και σε υψηλές θερμοκρασίες.

Επικάλυψη καρβιδίου (TAC) σε μικροσκοπική διατομή

2. Φυσικές ιδιότητες του καρβιδίου tantalum

2.1 εξαιρετικά υψηλό σημείο τήξης

Με σημείο τήξης 3.880 ° C, το καρβίδιο του ταντάλου έχει ένα από τα υψηλότερα σημεία τήξης οποιουδήποτε γνωστού υλικού, με αποτέλεσμα εξαιρετική σταθερότητα σε ακραίες θερμοκρασίες.

2.2 Εξαιρετική σκληρότητα

Με σκληρότητα MOHS περίπου 9-10, είναι κοντά στο διαμάντι και ως εκ τούτου χρησιμοποιείται ευρέως σε ανθεκτικές σε φθορά επικαλύψεις.

2.3 Καλή ηλεκτρική αγωγιμότητα

Σε αντίθεση με τα περισσότερα κεραμικά υλικά, η TAC διαθέτει υψηλή ηλεκτρική αγωγιμότητα που μοιάζει με μέταλλο, γεγονός που το καθιστά πολύτιμο για εφαρμογές σε ορισμένες ηλεκτρονικές συσκευές.

2.4 Διάβρωση και αντίσταση οξείδωσης

Το TAC είναι εξαιρετικά ανθεκτικό στη διάβρωση οξέος και διατηρεί τη δομική του ακεραιότητα σε σκληρά περιβάλλοντα σε μεγάλες χρονικές περιόδους.

Ωστόσο, το TAC μπορεί να οξειδώσει σε πεντοξείδιο του ταντάλου (Ta₂o₅) στον αέρα πάνω από 1.500 ° C. 

3. Κοινά τελειωμένα προϊόντα καρβιδίου tantalum

3.1 Τακώματα επικαλυμμένα με καρβίδιο του ταντάλου

● CVD tantalum carbide επικαλυμμένο με ευαισθησία: Χρησιμοποιείται σε επιταξία ημιαγωγών και επεξεργασία υψηλής θερμοκρασίας.

● Εξαρτήματα γραφίτη επικαλυμμένα με καρβίδιο: Χρησιμοποιείται σε φούρνους υψηλής θερμοκρασίας και θαλάμους επεξεργασίας πλακιδίων. Παραδείγματα περιλαμβάνουν πορώδη γραφίτη επικαλυμμένου με καρβίδιο του tantalum, ο οποίος βελτιώνει σημαντικά την αποτελεσματικότητα της διεργασίας και την ποιότητα των κρυστάλλων βελτιστοποιώντας τη ροή του αερίου κατά τη διάρκεια της ανάπτυξης των κρυστάλλων SIC, τη μείωση του θερμικού στρες, τη βελτίωση της θερμικής ομοιομορφίας, την ενίσχυση της αντοχής στη διάβρωση και την αναστολή της διάχυσης των ακαθαρσιών.

● Πλάκα περιστροφής επικάλυψης καρβιδίου με καρβίδιο: Η πλάκα περιστροφής επικάλυψης TAC της Veteksemicon έχει σύνθεση υψηλής καθαρότητας με περιεχόμενο μικρότερης από 5ppm και μια πυκνή και ομοιόμορφη δομή, η οποία χρησιμοποιείται ευρέως στο σύστημα LPE EPI, το σύστημα Aixtron, το σύστημα Nuflare, το σύστημα TEL CVD, το σύστημα VEECO, το σύστημα TSI. Συστήματα, συστήματα TSI.

● Θερμαντήρα επικαλυμμένου με TAC: Ο συνδυασμός του εξαιρετικά υψηλού σημείου τήξης του TAC (~ 3880 ° C) του επιτρέπει να λειτουργεί σε πολύ υψηλές θερμοκρασίες, ειδικά στην ανάπτυξη επιταξιακών στρωμάτων του γάλλου (GAN) στη διαδικασία από εναπόθεση μεταλλικού οργανικού χημικού ατμού (MOCVD).

● Το Tantalum Carbide επικαλύφθηκε το χωνευτήριο: Τα CVD TAC Coated Crucibles συχνά διαδραματίζουν βασικό ρόλο στην ανάπτυξη των SIC μεμονωμένων κρυστάλλων με Pvt.

3.2 Εργαλεία κοπής και ανθεκτικά στη φθορά

● Εργαλεία κοπής καρβιδίου με καρβίδιο με καρβίδιο: Βελτίωση της ακρίβειας της ζωής και της κατεργασίας.

● Αεροδιαστημικά ακροφύσια και ασπίδες θερμότητας: Παρέχετε προστασία σε ακραία θερμότητα και διαβρωτικό περιβάλλον.

3.3 Κεραμικά προϊόντα υψηλής απόδοσης Tantalum Carbide

● Συστήματα θερμικής προστασίας διαστημικού σκάφους (TPS): Για διαστημικά σκάφη και υπερηχητικά οχήματα.

● Επικαλύψεις πυρηνικών καυσίμων: Προστασία των σφαιριδίων πυρηνικών καυσίμων από τη διάβρωση.

4. Εφαρμογές καρβιδίου Tantalum στην κατασκευή ημιαγωγών

4.1 Tantalum Carbide Coated Carriers (Sensceptor) για επιταξιακές διεργασίες

Ρόλος: Οι επικαλύψεις καρβιδίου του ταντάλου που εφαρμόζονται στους φορείς γραφίτη βελτιώνουν τη θερμική ομοιομορφία και τη χημική σταθερότητα στη χημική εναπόθεση ατμών (CVD) και τις διαδικασίες μεταλλικής-οργανικής χημικής εναπόθεσης ατμών (MOCVD).

Πλεονέκτημα: Μειωμένη μόλυνση της διαδικασίας και εκτεταμένη ζωή φορέα.

4.2 εξαρτήματα Etch και εναπόθεσης

Δαχτυλίδια και ασπίδες μεταφοράς πλακιδίων: Η επίστρωση καρβιδίου Tantalum βελτιώνει την ανθεκτικότητα των θαλάμων χάραξης πλάσματος.

Πλεονέκτημα: αντέχει επιθετικά περιβάλλοντα χάραξης και μειώνει τις βροχοπτώσεις μολυσματικών.

4.3 Στοιχεία θέρμανσης υψηλής θερμοκρασίας

Εφαρμογή στην ανάπτυξη CVD SIC: Τα συστήματα θέρμανσης με επικάλυψη καρβιδίου Tantalum βελτιώνουν τη σταθερότητα και την αποτελεσματικότητα της διαδικασίας κατασκευής πλακιδίων του καρβιδίου πυριτίου (SIC).

4.4 Προστατευτικές επικαλύψεις για εξοπλισμό παραγωγής ημιαγωγών

Γιατί χρειάζεστε επίστρωση TAC;  Η κατασκευή ημιαγωγών περιλαμβάνει ακραίες θερμοκρασίες και διαβρωτικά αέρια και οι επικαλύψεις καρβιδίου του ταντάλου είναι αποτελεσματικά στη βελτίωση της σταθερότητας και της διάρκειας ζωής του εξοπλισμού.

5. Γιατί να επιλέξετεΗμικάνιο?

Το Veteksemicon είναι κορυφαίος κατασκευαστής και προμηθευτής τουΕπίστρωση καρβιδίου του ταντάλουΥλικά στη βιομηχανία ημιαγωγών στην Κίνα. Τα κύρια προϊόντα μας περιλαμβάνουν τα επικαλυμμένα με καρβίδιο καρβιδίου CVD, τα συσσωματωμένα μέρη επικαλυμμένα με TAC για την ανάπτυξη κρυστάλλων SIC ή τις διαδικασίες επιταξίας ημιαγωγών. Το Veteksemicon δεσμεύεται να είναι καινοτόμος και ηγέτης στη βιομηχανία επίστρωσης καρβιδίου Tantalum μέσω συνεχούς επανάληψης της Ε & Α και της τεχνολογίας.