Νέα

Νέα

Είμαστε στην ευχάριστη θέση να μοιραστούμε μαζί σας τα αποτελέσματα της δουλειάς μας, τα νέα της εταιρείας και να σας παρέχουμε έγκαιρες εξελίξεις και τις συνθήκες διορισμού και απομάκρυνσης προσωπικού.
Καλώς ήλθατε στους πελάτες να επισκεφθούν το Veteksemic's SIC Coating/ TAC Coating and Epitaxy Process Factory05 2024-09

Καλώς ήλθατε στους πελάτες να επισκεφθούν το Veteksemic's SIC Coating/ TAC Coating and Epitaxy Process Factory

Στις 5 Σεπτεμβρίου, οι πελάτες της Vetek Semiconductor επισκέπτονταν τα εργοστάσια επίστρωσης SIC και TAC επικάλυψης και κατέληξαν σε περαιτέρω συμφωνίες σχετικά με τις τελευταίες επιταξιακές λύσεις διαδικασίας.
Καλωσορίστε τους πελάτες να επισκεφθούν το εργοστάσιο προϊόντων ανθρακονημάτων της Veteksemicon10 2025-09

Καλωσορίστε τους πελάτες να επισκεφθούν το εργοστάσιο προϊόντων ανθρακονημάτων της Veteksemicon

Στις 5 Σεπτεμβρίου 2025, ένας πελάτης από την Πολωνία επισκέφτηκε ένα εργοστάσιο της VETEK για να μάθει για τις προηγμένες τεχνολογίες και τις καινοτόμες διαδικασίες μας στην παραγωγή προϊόντων από ανθρακονήματα.
PZT Piezoelectric Wafers: High-Performance Solutions for Next-Gen MEMS20 2026-03

PZT Piezoelectric Wafers: High-Performance Solutions for Next-Gen MEMS

Στην εποχή της ταχείας εξέλιξης του MEMS (Micro-Electromechanical Systems), η επιλογή του σωστού πιεζοηλεκτρικού υλικού είναι μια απόφαση λήψης ή διακοπής για την απόδοση της συσκευής. Οι γκοφρέτες λεπτής μεμβράνης PZT (Lead Zirconate Titanate) έχουν αναδειχθεί ως η κορυφαία επιλογή έναντι εναλλακτικών όπως το AlN (Νιτρίδιο Αλουμινίου), προσφέροντας ανώτερη ηλεκτρομηχανική σύζευξη για αισθητήρες και ενεργοποιητές αιχμής.
Υποδοχείς υψηλής καθαρότητας: Το κλειδί για την προσαρμοσμένη απόδοση γκοφρέτας Semicon το 202614 2026-03

Υποδοχείς υψηλής καθαρότητας: Το κλειδί για την προσαρμοσμένη απόδοση γκοφρέτας Semicon το 2026

Καθώς η κατασκευή ημιαγωγών συνεχίζει να εξελίσσεται προς προηγμένους κόμβους διεργασιών, υψηλότερη ολοκλήρωση και πολύπλοκες αρχιτεκτονικές, οι καθοριστικοί παράγοντες για την απόδοση του πλακιδίου υφίστανται μια ανεπαίσθητη αλλαγή. Για την εξατομικευμένη κατασκευή γκοφρέτας ημιαγωγών, το σημείο πρωτοπορίας για την απόδοση δεν βρίσκεται πλέον αποκλειστικά σε βασικές διεργασίες όπως η λιθογραφία ή η χάραξη. Οι υποδοχείς υψηλής καθαρότητας γίνονται όλο και περισσότερο η υποκείμενη μεταβλητή που επηρεάζει τη σταθερότητα και τη συνέπεια της διαδικασίας.
Επίστρωση SiC εναντίον TaC: Η απόλυτη ασπίδα για επιδεκτικά γραφίτη στην ημιεπεξεργασία ισχύος υψηλής θερμοκρασίας05 2026-03

Επίστρωση SiC εναντίον TaC: Η απόλυτη ασπίδα για επιδεκτικά γραφίτη στην ημιεπεξεργασία ισχύος υψηλής θερμοκρασίας

Στον κόσμο των ημιαγωγών ευρείας ζώνης (WBG), εάν η προηγμένη διαδικασία κατασκευής είναι η «ψυχή», ο υποδοχέας γραφίτη είναι η «ραχοκοκαλιά» και η επιφάνειά του είναι το κρίσιμο «δέρμα».
Η κρίσιμη αξία της χημικής μηχανικής επιπεδοποίησης (CMP) στην κατασκευή ημιαγωγών τρίτης γενιάς06 2026-02

Η κρίσιμη αξία της χημικής μηχανικής επιπεδοποίησης (CMP) στην κατασκευή ημιαγωγών τρίτης γενιάς

Στον κόσμο των ηλεκτρονικών ισχύος υψηλού κινδύνου, το καρβίδιο του πυριτίου (SiC) και το νιτρίδιο του γαλλίου (GaN) πρωτοστατούν σε μια επανάσταση — από τα ηλεκτρικά οχήματα (EVs) στις υποδομές ανανεώσιμων πηγών ενέργειας. Ωστόσο, η θρυλική σκληρότητα και η χημική αδράνεια αυτών των υλικών παρουσιάζουν ένα τρομερό εμπόδιο στην κατασκευή.
X
Χρησιμοποιούμε cookies για να σας προσφέρουμε καλύτερη εμπειρία περιήγησης, να αναλύσουμε την επισκεψιμότητα του ιστότοπου και να εξατομικεύσουμε το περιεχόμενο. Χρησιμοποιώντας αυτόν τον ιστότοπο, συμφωνείτε με τη χρήση των cookies από εμάς. Πολιτική Απορρήτου
Απορρίπτω Αποδέχομαι