Νέα

Σε βάθος ανάλυση των αιτιών του κιτρίνισμα των άκρων και του ξεφλούδισμα της επικάλυψης καρβιδίου του πυριτίου σε υποδοχείς επιτάξιου γραφίτη MOCVD. Το VeTek εξάλειψε τη μικρο-στρες ελέγχοντας με ακρίβεια τον αρχικό ρυθμό εναπόθεσης CVD και το πεδίο ροής, αυξάνοντας την απόδοση επίστρωσης από 50% σε 90% και επεκτείνοντας τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων γραφίτη υψηλής καθαρότητας.

Αντιμετωπίζοντας 1,4% διακύμανση πάχους από τσέπη σε τσέπη σε υποδοχείς γραφίτη επιτάξου πυριτίου πολλαπλών τσέπες, το VeTek Semi βελτίωσε την επιπεδότητα του υποδοχέα σε <0,08 mm και μείωσε τη διακύμανση στο 0,69% μέσω προσομοίωσης πεδίου ροής CVD και επίστρωσης υπερακρίβειας βάφου SiC.

Μάθετε πώς η Vetek εξάλειψε την ακτινική ρωγμή σε υποδοχείς γραφίτη μεγάλου μεγέθους με επικάλυψη MOCVD SiC. Ο επανασχεδιασμός του δομικού προστατευτικού τάσεων και η αντιστοίχιση CTE αύξησαν τη διάρκεια ζωής κατά 300%+.

Μια δεκαετία εξέλιξης του SiC — από τις πρώιμες προκλήσεις εμπορευματοποίησης 4 ιντσών έως τη σημερινή μετάβαση της γκοφρέτας 8 ιντσών. Ανακαλύψτε πώς οι επιστρώσεις CVD SiC, τα υλικά στερεού SiC και TaC επιτρέπουν την αξιόπιστη κατασκευή ημιαγωγών.

Μάθετε πώς οι υποδοχείς γραφίτη με επίστρωση CVD SiC ενισχύουν την επιταξιακή ανάπτυξη βελτιώνοντας τη θερμική ομοιομορφία, μειώνοντας τη μόλυνση και επεκτείνοντας τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων στην κατασκευή ημιαγωγών SiC, GaN, LED και πυριτίου.

Ανακαλύψτε πώς οι θερμαντήρες γραφίτη με επίστρωση TaC ενισχύουν την ομοιομορφία της θερμοκρασίας, μειώνουν την κατανάλωση ενέργειας και παρατείνουν τη διάρκεια ζωής στην επιταξία GaN MOCVD σε σύγκριση με τις συμβατικές θερμάστρες με επίστρωση pBN.

Ανακαλύψτε πώς η επίστρωση CVD TaC βελτιώνει την ανάπτυξη κρυστάλλων SiC σε κλιβάνους PVT μειώνοντας τη μόλυνση από άνθρακα, προστατεύοντας εξαρτήματα γραφίτη, παρατείνοντας τη διάρκεια ζωής και βελτιώνοντας την ποιότητα των κρυστάλλων για προηγμένη κατασκευή ημιαγωγών.

Ανακαλύψτε γιατί η επίστρωση CVD TaC γίνεται η προτιμώμενη προστατευτική λύση για εξαρτήματα γραφίτη ημιαγωγών. Μάθετε τα πλεονεκτήματά του, τις εφαρμογές του στην ανάπτυξη κρυστάλλων SiC, το GaN MOCVD και τους φορείς γκοφρέτας και πώς βελτιώνει την ανθεκτικότητα, την καθαρότητα και τη σταθερότητα της διαδικασίας.

Μάθετε πώς οι δακτύλιοι γραφίτη με επίστρωση VETEK Pyrolytic Carbon (PyC) βελτιώνουν τη θερμική σταθερότητα, μειώνουν τη μόλυνση και παρατείνουν τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων σε διαδικασίες ανάπτυξης κρυστάλλων SiC, επιταξίας, CVD και ημιαγωγών υψηλής θερμοκρασίας.

Ανακαλύψτε πώς η επίστρωση CVD TaC βελτιώνει την ανάπτυξη κρυστάλλων SiC και την κατασκευή ημιαγωγών με εξαιρετικά υψηλή θερμική σταθερότητα, αντοχή στη διάβρωση, καταστολή ακαθαρσιών και ανώτερη απόδοση σε εφαρμογές MOCVD και επιταξίας.

Ρίξτε μια ματιά στα βασικά εξαρτήματα Aixtron G10 για συστήματα επιταξίας SiC υψηλής θερμοκρασίας. Καλύπτουμε εξαρτήματα γραφίτη με επικάλυψη CVD SiC, εξαρτήματα επίστρωσης TaC και δομές θερμικού πεδίου – και πώς βοηθούν στη σταθερότητα της διαδικασίας, τον έλεγχο καθαρότητας και την απόδοση γκοφρέτας στην προηγμένη κατασκευή ημιαγωγών.

Μάθετε τι είναι ένα εξάρτημα Halfmoon σε έναν θάλαμο αντίδρασης LPE και πώς υποστηρίζει τη θερμική σταθερότητα, τη διαχείριση ροής αερίου και τη δομή του αντιδραστήρα σε συστήματα επιταξίας SiC. Εξερευνήστε υλικά γραφίτη, επίστρωση CVD SiC, επίστρωση TaC και σύγχρονες τεχνολογίες αντιδραστήρων ημιαγωγών.

Παλεύετε με τα ποσοστά απόδοσης MicroLED; Ανακαλύψτε γιατί οι ηγέτες του κλάδου στρέφονται σε υποστρώματα SiC και εξαρτήματα MOCVD με επικάλυψη TaC για να επιλύσουν τη θερμική καταπόνηση και τη μόλυνση από σωματίδια. Μάθετε τα τεχνικά πλεονεκτήματα του CVD SiC για οθόνες GaN επόμενης γενιάς

Εξερευνήστε πώς η επίστρωση CVD SiC χρησιμοποιείται σε διεργασίες ημιαγωγών, συμπεριλαμβανομένης της δομής, των χαρακτηριστικών απόδοσης και των τυπικών εφαρμογών, καθώς και της συνάφειάς της σε εφαρμογές σε υψηλές θερμοκρασίες.

Αξίζει την επένδυση το CVD Solid SiC; Συγκρίνετε την απόδοση επένδυσης (ROI) του μονολιθικού SiC με τις παραδοσιακές επιστρώσεις γραφίτη. Μάθετε πώς η ανώτερη αντίσταση πλάσματος και το εκτεταμένο MTBC μεταφράζονται σε χαμηλότερα ποσοστά σκραπ γκοφρέτας και υψηλότερο χρόνο λειτουργίας εξοπλισμού για γραμμές HVM 12 ιντσών.

Τα υλικά υψηλής καθαρότητας είναι απαραίτητα για την κατασκευή ημιαγωγών. Αυτές οι διεργασίες περιλαμβάνουν υπερβολική θερμότητα και διαβρωτικές χημικές ουσίες. Το CVD-SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) παρέχει την απαραίτητη σταθερότητα και αντοχή. Είναι πλέον η κύρια επιλογή για εξαρτήματα προηγμένου εξοπλισμού λόγω της υψηλής καθαρότητας και πυκνότητάς του.