Νέα

Νέα

Είμαστε στην ευχάριστη θέση να μοιραστούμε μαζί σας τα αποτελέσματα της δουλειάς μας, τα νέα της εταιρείας και να σας παρέχουμε έγκαιρες εξελίξεις και τις συνθήκες διορισμού και απομάκρυνσης προσωπικού.
Πώς η επίστρωση TaC βελτιώνει τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων γραφίτη; - VeTek Semiconductor22 2024-11

Πώς η επίστρωση TaC βελτιώνει τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων γραφίτη; - VeTek Semiconductor

Η επίστρωση καρβιδίου του τανταλίου (TaC) μπορεί να παρατείνει σημαντικά τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων γραφίτη βελτιώνοντας την αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες, την αντίσταση στη διάβρωση, τις μηχανικές ιδιότητες και τις δυνατότητες διαχείρισης θερμότητας. Τα χαρακτηριστικά υψηλής καθαρότητάς του μειώνουν τη μόλυνση από ακαθαρσίες, βελτιώνουν την ποιότητα ανάπτυξης κρυστάλλων και ενισχύουν την ενεργειακή απόδοση. Είναι κατάλληλο για την κατασκευή ημιαγωγών και για εφαρμογές ανάπτυξης κρυστάλλων σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας, εξαιρετικά διαβρωτικά.
Ποια είναι η συγκεκριμένη εφαρμογή των επικαλυμμένων με TAC τμήματα στο πεδίο ημιαγωγών;22 2024-11

Ποια είναι η συγκεκριμένη εφαρμογή των επικαλυμμένων με TAC τμήματα στο πεδίο ημιαγωγών;

Οι επικαλύψεις καρβιδίου (TAC) χρησιμοποιούνται ευρέως στο πεδίο των ημιαγωγών, κυρίως για τα συστατικά αντιδραστήρα επιταξιακής ανάπτυξης, την απόδοση και την κρυστάλλινη ανάπτυξη, τη μείωση της κατανάλωσης και τη βελτίωση της σταθερότητας της σταθερότητας.
Γιατί αποτυγχάνει ο επικαλυμμένος με SiC Graphite Susceptor; - VeTek Semiconductor21 2024-11

Γιατί αποτυγχάνει ο επικαλυμμένος με SiC Graphite Susceptor; - VeTek Semiconductor

Κατά τη διάρκεια της διαδικασίας επιταξικής ανάπτυξης SIC, μπορεί να προκύψει αποτυχία ανάρτησης γραφίτη με επικάλυψη SIC. Το παρόν έγγραφο διεξάγει μια αυστηρή ανάλυση του φαινομένου αποτυχίας της εναιώρησης γραφίτη με επικάλυψη SIC, η οποία περιλαμβάνει κυρίως δύο παράγοντες: αποτυχία επιταξιακής αερίου SIC και αποτυχία επικάλυψης SIC.
Ποιες είναι οι διαφορές μεταξύ MBE και MOCVD Technologies;19 2024-11

Ποιες είναι οι διαφορές μεταξύ MBE και MOCVD Technologies;

Αυτό το άρθρο εξετάζει κυρίως τα αντίστοιχα πλεονεκτήματα και διαφορές της διαδικασίας της διαδικασίας επιτάξεως μοριακής δέσμης και των τεχνολογιών εναπόθεσης χημικών ατμών μετάλλων-οργανικών.
Porous Tantalum Carbide: Μια νέα γενιά υλικών για την ανάπτυξη κρυστάλλων SIC18 2024-11

Porous Tantalum Carbide: Μια νέα γενιά υλικών για την ανάπτυξη κρυστάλλων SIC

Το πορώδες καρβίδιο του τανταλίου της VeTek Semiconductor, ως νέα γενιά υλικού ανάπτυξης κρυστάλλων SiC, έχει πολλές εξαιρετικές ιδιότητες προϊόντος και παίζει βασικό ρόλο σε μια ποικιλία τεχνολογιών επεξεργασίας ημιαγωγών.
Τι είναι ένας επιταξιακός κλίβανος EPI; - Vetek Semiconductor14 2024-11

Τι είναι ένας επιταξιακός κλίβανος EPI; - Vetek Semiconductor

Η αρχή λειτουργίας του επιταξιακού κλιβάνου είναι η εναπόθεση υλικών ημιαγωγών σε ένα υπόστρωμα υπό υψηλή θερμοκρασία και υψηλή πίεση. Η επιταξιακή ανάπτυξη του πυριτίου είναι να αναπτυχθεί ένα στρώμα κρυστάλλου με τον ίδιο προσανατολισμό κρυστάλλου με το υπόστρωμα και διαφορετικό πάχος σε ένα ενιαίο κρύσταλλο πυριτίου με ορισμένο κρυσταλλικό προσανατολισμό. Αυτό το άρθρο εισάγει κυρίως τις μεθόδους επιταξιακής ανάπτυξης του πυριτίου: επιταξία φάσης ατμών και επιταξία υγρής φάσης.
X
Χρησιμοποιούμε cookies για να σας προσφέρουμε καλύτερη εμπειρία περιήγησης, να αναλύσουμε την επισκεψιμότητα του ιστότοπου και να εξατομικεύσουμε το περιεχόμενο. Χρησιμοποιώντας αυτόν τον ιστότοπο, συμφωνείτε με τη χρήση των cookies από εμάς. Πολιτική Απορρήτου
Απορρίπτω Αποδέχομαι