Ακροφύσιο κεραμικού ημιαγωγού

Το κεραμικό ακροφύσιο ημιαγωγών παίζει σημαντικό ρόλο στοΔιαδικασία HDP-CVD, χρησιμοποιείται για τον με ακρίβεια τη ροή αερίου και τη διασφάλισηυψηλής ποιότητας εναπόθεση ταινιών. Το κεραμικό ψεκασμό ακροφυσίων είναι σχεδιασμένο με ακρίβεια για να εξασφαλίσει σταθερούς και ελεγχόμενους ρυθμούς ροής αερίου, ελαχιστοποιώντας την πιθανή αναταραχή όταν το αέριο εισέρχεται στο θάλαμο αντίδρασης.

Τεχνικές Προδιαγραφές:

1.Σύνθεση Υλικού:

Το ακροφύσιο αμμοβολής VeTeK Semiconductor είναι συνήθως κατασκευασμένο από κεραμικά ημιαγωγών όπως οξείδιο αλουμινίου (Al2O3),καρβίδιο πυριτίου (sic), ή οξείδιο ζιρκονίου (ZrO2), αυτά τα υλικά έχουν εξαιρετικές ιδιότητες:

    • υψηλή θερμική σταθερότητα (μπορεί να αντέξει θερμοκρασίες πάνω από 1000℃)

    • Αντοχή στη διάβρωση με αντιδραστικά αέρια που χρησιμοποιούνταιΔιαδικασίες CVD(όπως σιλάνη, αμμωνία)

    • Αντοχή στη συνεχή έκθεση στο πλάσμα.

2. Δομικός σχεδιασμός:

    • Μέγεθος στόματος: Το στόμιο του κεραμικού ακροφυσίου ημιαγωγού είναι επιστημονικά σχεδιασμένο για να επιτρέπει τον ακριβή έλεγχο της ροής αερίου, ο οποίος με τη σειρά της επηρεάζει την ομοιομορφία και το πάχος της μεμβράνης.

    • Γωνίες και γεωμετρίες: με ακρίβεια σχεδιασμένες για να εξασφαλιστεί ομοιόμορφη κατανομή αερίου σε όλο το υπόστρωμα, ελαχιστοποιώντας τα ελαττώματα στο εναποτιθέμενο στρώμα.

Στη βιομηχανία ημιαγωγών, το ακροφύσιο κεραμικής έκρηξης ημιαγωγών διαδραματίζει βασικό ρόλο κυρίως στη διαδικασία HDP-CVD. Χρησιμοποιούνται επίσης για την κατάθεση λεπτών μεμβρανών για την παραγωγή μικροηλεκτρονικής, εξασφαλίζοντας επιφανειακές επικαλύψεις υψηλής ποιότητας που είναι ομοιόμορφες και απαλλαγμένες από ρύπους.

Καταστήματα κεραμικών ακροφυσίων VeTeK Semiconductor: