Προϊόντα

Το VETEK CVD SiC Coated Graphite Susceptor for Wafer Carrier είναι ένα εξάρτημα στήριξης γκοφρέτας υψηλής απόδοσης σχεδιασμένο για διεργασίες επιταξίας ημιαγωγών. Το προϊόν χρησιμοποιεί γραφίτη υψηλής καθαρότητας ως υπόστρωμα και είναι επικαλυμμένο με ομοιόμορφο στρώμα καρβιδίου του πυριτίου CVD (SiC), παρέχοντας εξαιρετική θερμική σταθερότητα, χημική αντοχή και έλεγχο σωματιδίων. Ως κρίσιμο συστατικό υποδοχέα γραφίτη, υποστηρίζει άμεσα τις γκοφρέτες μέσα στο θάλαμο αντίδρασης και βοηθά στη διατήρηση της ομοιόμορφης κατανομής θερμοκρασίας και των σταθερών επιταξιακών συνθηκών ανάπτυξης.

Το VeTek Semiconductor παρέχει κορυφαίας ποιότητας σκόνη καρβιδίου του πυριτίου (SiC) υψηλής καθαρότητας, ειδικά προσαρμοσμένης για ανάπτυξη κρυστάλλων SiC υψηλής απόδοσης (διαδικασία PVT), παραγωγή υποστρώματος ημιαγωγών και προηγμένα λειτουργικά κεραμικά. Επεξεργασμένη μέσω τεχνολογίας εξαιρετικά καθαρού καθαρισμού, η πρώτη ύλη SiC υψηλής καθαρότητας παρέχει εξαιρετικά χαμηλά επίπεδα ιχνοστοιχείων μετάλλων, αναπαραγώγιμη απόδοση εξάχνωσης και εξαιρετικά σταθερή ποιότητα από παρτίδα σε παρτίδα για την κάλυψη αυστηρών απαιτήσεων κατασκευής ημιαγωγών.

Το VETEK High Purity Quartz Wafer Boat για εξοπλισμό ημιαγωγών TEL κατασκευάζεται από υλικό χαλαζία ημιαγωγού και έχει σχεδιαστεί για χειρισμό πλακιδίων σε διαδικασίες υψηλής θερμοκρασίας όπως διάχυση, οξείδωση, ανόπτηση και CVD. Με εξαιρετική θερμική σταθερότητα, χημική αντοχή και χαρακτηριστικά χαμηλής μόλυνσης, παρέχει αξιόπιστη υποστήριξη πλακιδίων για εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών.

Ο δακτύλιος γραφίτη με επικάλυψη πορώδους TaC VETEK είναι ένα εξάρτημα θερμικού πεδίου σχεδιασμένο για ανάπτυξη μονοκρυστάλλου SiC μέσω της διαδικασίας PVT (Physical Vapor Transport). Παράγεται από πορώδες γραφίτη υψηλής καθαρότητας και επικαλύπτεται με καρβίδιο του τανταλίου (TaC) χρησιμοποιώντας τεχνολογία CVD. Ο σχεδιασμός στοχεύει τη σταθερότητα σε υψηλές θερμοκρασίες, τη χημική ανθεκτικότητα και την απόδοση ελεγχόμενου θερμικού πεδίου. Με την ελαχιστοποίηση της μόλυνσης και την υποστήριξη της συνέπειας της διαδικασίας, αυτό το συστατικό συμβάλλει σε αναπαραγώγιμα αποτελέσματα ανάπτυξης κρυστάλλων SiC.

Ο φορέας VETEK CVD με επίστρωση γραφίτη RTP RTA με καρβίδιο πυριτίου (SiC) έχει σχεδιαστεί για συστήματα ταχείας θερμικής επεξεργασίας (RTP) και ταχείας θερμικής ανόπτησης (RTA) που χρησιμοποιούνται στην κατασκευή ημιαγωγών. Κατασκευασμένο από ισοστατικό γραφίτη υψηλής καθαρότητας με πυκνή επίστρωση CVD SiC, παρέχει εξαιρετική θερμική σταθερότητα, εξαιρετική ομοιομορφία θερμοκρασίας, ανώτερη χημική αντοχή και εξαιρετικά χαμηλή παραγωγή σωματιδίων. Σχεδιασμένος για να αντέχει σε επαναλαμβανόμενους γρήγορους κύκλους θέρμανσης και ψύξης, ο φορέας εξασφαλίζει αξιόπιστη υποστήριξη γκοφρέτας και σταθερή απόδοση διεργασίας για ανόπτηση πλακιδίων πυριτίου και άλλες εφαρμογές ημιαγωγών υψηλής θερμοκρασίας.

Το VETEK CVD TaC Coated Susceptor συνδυάζει ένα υπόστρωμα ισοστατικού γραφίτη υψηλής καθαρότητας με μια πυκνή επίστρωση καρβιδίου τανταλίου (TaC) CVD για να προσφέρει εξαιρετική θερμική σταθερότητα, αντοχή στη διάβρωση και χαμηλή παραγωγή σωματιδίων για απαιτητική επιταξία ημιαγωγών. Σχεδιασμένο για επιταξιακή ανάπτυξη SiC, GaN και AlN, ελαχιστοποιεί τη μόλυνση, βελτιώνει την ομοιομορφία της θερμοκρασίας του πλακιδίου και επεκτείνει τη διάρκεια ζωής του εξαρτήματος σε διεργασίες MOCVD και CVD υψηλής θερμοκρασίας.