Μεταφορέας γκοφρέτας χαλαζία υψηλής καθαρότητας

1. Βασικά Χαρακτηριστικά & Πλεονεκτήματα

• Υπερυψηλής καθαρότητας αφυδροξυλιωμένος τετηγμένος χαλαζίας (SiO2 ≥ 99,999%) με ακαθαρσίες μετάλλων ελεγχόμενες σε επίπεδα ppb – ελαχιστοποίηση της μόλυνσης της γκοφρέτας

• Θερμοκρασία μακροχρόνιας λειτουργίας έως 1100 °C. βραχυπρόθεσμη μέγιστη αντοχή στους 1200 °C

• Εξαιρετική αντοχή σε θερμικό σοκ και σταθερότητα διαστάσεων κάτω από συχνή εναλλαγή θερμοκρασίας

• Ισχυρή χημική αδράνεια έναντι των οξειδωτικών αερίων διεργασίας και των κοινών χημικών υγρών διεργασιών (HF, H2O2, οξέα/αλκάλια)

• Επιφάνεια λείανσης υψηλής επιπεδότητας και ακρίβειας με στρογγυλεμένες άκρες για ομοιόμορφη στήριξη της γκοφρέτας και μειωμένη ζημιά στις άκρες

• Χαμηλή απαέρωση υπό κενό και χαμηλή επιφανειακή προσρόφηση—κατάλληλη για διεργασίες κενού ακριβείας

• Πλήρως προσαρμόσιμες δομές: συμπαγείς φορείς, σχέδια με διάτρητο/αερισμό, βαθμιδωτή θέση, οπές τοποθέτησης, στηρίγματα πολλαπλών σημείων και παχύρρευστα σχέδια κατά της παραμόρφωσης για γκοφρέτες 2–12 ιντσών

2. Τυπικές Εφαρμογές

Αυτοί οι φορείς χρησιμοποιούνται οπουδήποτε οι γκοφρέτες χρειάζονται καθαρή, σταθερή υποστήριξη διαστάσεων υπό υψηλή θερμοκρασία ή επιθετική χημεία:

• Φόρτωση κλιβάνου διάχυσης και ανόπτησης

• Υποστήριξη διαδικασίας ανάπτυξης φιλμ PECVD και LPCVD

• Θάλαμος κενού και εργαλεία διεργασίας υψηλής θερμοκρασίας

• Μεταφορείς σταθμών στεγνώματος και υγρού καθαρισμού μετά την χάραξη

• Θερμική επεξεργασία συσκευών ισχύος SiC και GaN

• Οπτοηλεκτρονικό χειρισμό υποστρώματος και εργαστηριακά θερμικά εργαλεία

3. Βασικές Τεχνικές Παράμετροι

• Υλικό βάσης: ημιαγωγός αφυδροξυλιωμένος λιωμένος χαλαζίας, SiO2 ≥ 99,999%

• Συμβατά μεγέθη γκοφρέτας: 2, 4, 6, 8 και 12 ίντσες (Si, SiC, GaN, ζαφείρι)

• Συνιστώμενη περιοχή συνεχούς θερμοκρασίας: −20 °C έως 1100 °C. βραχυπρόθεσμη αιχμή έως περίπου 1200 °C

• Οδός κατασκευής: μονοκόμματη διαμόρφωση, λείανση επιφανειών ακριβείας, στρογγυλοποίηση άκρων, ανόπτηση ανακούφισης από καταπόνηση και εξαιρετικά καθαρός τελικός καθαρισμός

• Διαθέσιμες διαμορφώσεις: συμπαγής, αεριζόμενη/διάτρητη, βαθμιδωτή θέση, με μοτίβο οπών και πλήρως προσαρμοσμένες γεωμετρίες

• Εστίαση απόδοσης: υψηλή καθαρότητα, θερμική σταθερότητα, αντοχή στη διάβρωση, επιπεδότητα επιφάνειας, χαμηλή εξάτμιση και μακροπρόθεσμη διατήρηση διαστάσεων

• Πεδίο προσαρμογής: εξωτερικές διαστάσεις, πάχος, γεωμετρία υποστήριξης, διάταξη οπών και ειδικά χαρακτηριστικά με βάση τα σχέδια πελατών

4. Γιατί να επιλέξετε VeTek Μεταφορείς Γκοφρέτας Quartz High Purity;

Ως επαγγελματίας κατασκευαστής εξαρτημάτων χαλαζία ημιαγωγών, η VeTek Semiconductor προσφέρει:

• Φορείς γκοφρέτας χαλαζία υψηλής καθαρότητας σχεδιασμένοι για θερμικά περιβάλλοντα, κενού και υγρής διεργασίας

• Αυστηρός έλεγχος καθαρότητας, επιπεδότητα επιφάνειας και καθαριότητα κατάλληλα για προηγμένη παραγωγή ημιαγωγών

• Πλήρης προσαρμογή και σχέδια συμβατά με OEM για εργαλεία φούρνου, θαλάμου και σταθμών επεξεργασίας

• Συμπληρωματικά προϊόντα χαλαζία ημιαγωγών συμπεριλαμβανομένων σωλήνων κλιβάνου, βάρκες γκοφρέτας, χωνευτήρια και άλλα εξαρτήματα διεργασίας

Οι φορείς γκοφρέτας χαλαζία υψηλής καθαρότητας βοηθούν στη διατήρηση ομοιόμορφης θερμικής επαφής, μειώνουν τη μόλυνση από σωματίδια και μέταλλα και παρατείνουν τη διάρκεια ζωής των εργαλείων υπό συνεχείς συνθήκες υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικής διεργασίας - υποστηρίζοντας υψηλότερη απόδοση και χαμηλότερο κόστος ιδιοκτησίας στην κατασκευή ημιαγωγών.