Quartz Furnace Tube για Φούρνο Διάχυσης

1. Βασικά Χαρακτηριστικά & Πλεονεκτήματα

• Εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας αφυδροξυλιωμένος λιωμένος χαλαζίας (SiO2 ≥ 99,999%) με ακαθαρσίες μετάλλων ελεγχόμενες σε επίπεδα ppb και εξαιρετικά χαμηλή περιεκτικότητα σε υδροξύλια

• Θερμοκρασία μακροχρόνιας λειτουργίας έως 1100 °C. βραχυπρόθεσμη μέγιστη αντοχή στους 1200 °C

• Εξαιρετική αντοχή σε θερμικό σοκ μετά από πλήρη ανόπτηση ανακούφισης από καταπόνηση—ανθεκτικό σε ρωγμές υπό γρήγορες αλλαγές θερμοκρασίας

• Εξαιρετική χημική αδράνεια έναντι οξειδωτικών, αναγωγικών αερίων διεργασίας και που περιέχουν αλογόνο. κατάλληλο για πλάσμα και διαβρωτικές ατμόσφαιρες

• Πολύ χαμηλή απαέρωση υπό κενό. Το λείο εσωτερικό τοίχωμα ελαχιστοποιεί τη συσσώρευση παραπροϊόντων και υποστηρίζει την επαναληψιμότητα της διαδικασίας

• Μονοκόμματη διαμόρφωση με ομοιόμορφο πάχος τοιχώματος, υψηλή ομοαξονικότητα και φινιρισμένα άκρα ακριβείας για αξιόπιστη σφράγιση

• Προσαρμόσιμες δομές: ευθύγραμμοι σωλήνες, σωλήνες μειωτήρα, σωλήνες με φλάντζα, εκτεταμένα μήκη και ειδικές διαμορφώσεις άκρων για κατακόρυφους ή οριζόντιους κλιβάνους

2. Τυπικές εφαρμογές

Οι σωλήνες κλιβάνου χαλαζία VeTek χρησιμοποιούνται ευρέως ως θάλαμος αντίδρασης πυρήνα σε:

• Κλίβανοι θερμικής οξείδωσης (ξηρή/υγρή οξείδωση)

• Κλίβανοι διάχυσης για εισαγωγή προσμίξεων (B, P, As, κ.λπ.)

• Συστήματα LPCVD για εναπόθεση λεπτής μεμβράνης

• Ανόπτηση υπό κενό και άλλες διεργασίες θερμικής επεξεργασίας σε υψηλή θερμοκρασία

• Συμβατό με πλατφόρμες γκοφρέτας 4 ιντσών, 6 ιντσών, 8 ιντσών και 12 ιντσών (υποστρώματα Si, SiC, GaN, ζαφείρι)

Υποστηρίζουν γραμμές παραγωγής λογικής, μνήμης, συσκευής τροφοδοσίας, MCU, LED, MEMS και ημιαγωγών μεγάλης ζώνης που απαιτούν σταθερή ομοιομορφία θερμοκρασίας, έλεγχο ροής αερίου και εξαιρετικά καθαρά περιβάλλοντα διεργασιών.

3. Βασικές τεχνικές παράμετροι

• Υλικό: Ημιαγωγός αφυδροξυλιωμένος λιωμένος χαλαζίας (SiO2 ≥ 99,999%), χαμηλής περιεκτικότητας σε υδροξύλιο, χαμηλές μεταλλικές ακαθαρσίες

• Συμβατότητα γκοφρέτας: 4 / 6 / 8 / 12 ίντσες

• Θερμοκρασία μακροχρόνιας λειτουργίας: −20 °C έως 1100 °C. βραχυπρόθεσμη αιχμή έως 1200 °C

• Διαδικασία: Θερμική διαμόρφωση ενός τεμαχίου, ομογενοποίηση τοίχων, φινίρισμα άκρου, ανόπτηση ανακούφισης από καταπόνηση, δοκιμή διαρροής ηλίου, εξαιρετικά καθαρός καθαρισμός

• Διαθέσιμες δομές: Ευθύς σωλήνας, σωλήνας μειωτήρα, σωλήνας με φλάντζα, σωλήνας εκτεταμένου / προσαρμοσμένου μήκους, διαμορφώσεις ειδικού άκρου

• Προσαρμογή: Εσωτερική/εξωτερική διάμετρος, μήκος, πάχος τοιχώματος, προδιαγραφές φλάντζας και ειδικές γεωμετρίες ανά σχέδιο πελάτη

4. Γιατί να επιλέξετε σωλήνες φούρνου χαλαζία VeTek;

Ως επαγγελματίας κατασκευαστής εξαρτημάτων χαλαζία ημιαγωγών, η VeTek Semiconductor προσφέρει:

• Σωλήνες κλιβάνου χαλαζία υψηλής καθαρότητας κατασκευασμένοι για εξοπλισμό οξείδωσης, διάχυσης, LPCVD και ανόπτησης

• Αυστηρός έλεγχος καθαρότητας, ακρίβεια διαστάσεων και καθαριότητα κατάλληλα για παραγωγή καθαρού δωματίου Κατηγορίας 10 / Κλάσης 100

• Πλήρης προσαρμογή και σχέδια συμβατά με OEM για κάθετους και οριζόντιους φούρνους σωλήνων

• Συμπληρωματικά προϊόντα χαλαζία ημιαγωγών, συμπεριλαμβανομένων σκαφών γκοφρέτας, χωνευτηρίων, επενδύσεων και άλλων εξαρτημάτων διεργασίας

Οι σωλήνες κλιβάνου χαλαζία συμβάλλουν στη διατήρηση σταθερών συνθηκών θερμικής ροής και ροής αερίου, ελαχιστοποιούν τη μόλυνση από σωματίδια και μέταλλα και παρατείνουν τη διάρκεια ζωής υπό συνεχή κύκλο υψηλής θερμοκρασίας—υποστηρίζοντας υψηλότερη απόδοση και χαμηλότερο κόστος ιδιοκτησίας στη θερμική επεξεργασία ημιαγωγών.