Στερεό δαχτυλίδι εστίασης χάραξης SiC

Το Vetek Semiconductor έχει σημειώσει μεγάλη πρόοδο στην τεχνολογία SIC SIC CVD και είναι πλέον σε θέση να παράγει σταθερό δακτύλιο εστίασης SIC με το επίπεδο της παγκόσμιας. Το στερεό δακτύλιο εστίασης SIC της SIC του SEMINCONDUCH του Vetek είναι ένα προϊόν εστίασης καρβιδίου πυριτίου εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας που δημιουργήθηκε μέσω της διαδικασίας της εναπόθεσης χημικών ατμών.

Ο δακτύλιος εστίασης Solid SIC χρησιμοποιείται σε διαδικασίες παραγωγής ημιαγωγών, ιδιαίτερα σε συστήματα χάραξης πλάσματος. Ο δακτύλιος εστίασης SIC είναι ένα κρίσιμο συστατικό που βοηθά στην επίτευξη ακριβούς και ελεγχόμενης χάραξης των δισκίων καρβιδίου πυριτίου (sic).

Κατά τη διάρκεια της διαδικασίας χάραξης στο πλάσμα, ο δακτύλιος εστίασης παίζει πολλαπλούς ρόλους είναι οι εξής:

● Εστίαση του πλάσματος: Ο δακτύλιος εστίασης Solid SIC βοηθάει στη διαμόρφωση και συγκέντρωση του πλάσματος γύρω από το δίσκο, εξασφαλίζοντας ότι η διαδικασία χάραξης εμφανίζεται ομοιόμορφα και αποτελεσματικά. Βοηθά να περιοριστεί το πλάσμα στην επιθυμητή περιοχή, εμποδίζοντας την αδέσποτη χάραξη ή τη ζημιά στις γύρω περιοχές.

●  Προστασία των τοίχων του θαλάμου: Ο δακτύλιος εστίασης λειτουργεί ως εμπόδιο μεταξύ του πλάσματος και των τοιχωμάτων του θαλάμου, εμποδίζοντας την άμεση επαφή και την πιθανή ζημιά. Το SIC είναι ιδιαίτερα ανθεκτικό στη διάβρωση του πλάσματος και παρέχει εξαιρετική προστασία για τα τοιχώματα του θαλάμου.

●  Tέλεγχος θερμοκρασίας: Ο δακτύλιος εστίασης sic βοηθά στη διατήρηση της ομοιόμορφης κατανομής θερμοκρασίας σε όλη τη γκοφρέτα κατά τη διαδικασία χάραξης. Βοηθά στη διάχυση της θερμότητας και αποτρέπει την τοπική υπερθέρμανση ή τις θερμικές κλίσεις που θα μπορούσαν να επηρεάσουν τα αποτελέσματα της χάραξης.

Το στερεό SIC επιλέγεται για εστίαση δακτυλίων λόγω της εξαιρετικής θερμικής και χημικής σταθερότητας, της υψηλής μηχανικής αντοχής και της αντοχής στη διάβρωση του πλάσματος. Αυτές οι ιδιότητες καθιστούν το SIC κατάλληλο υλικό για τις σκληρές και απαιτητικές συνθήκες μέσα στα συστήματα χάραξης πλάσματος.

Αξίζει να σημειωθεί ότι ο σχεδιασμός και οι προδιαγραφές των δακτυλίων εστίασης μπορεί να διαφέρουν ανάλογα με το συγκεκριμένο σύστημα χάραξης πλάσματος και τις απαιτήσεις της διαδικασίας. Το VeTek Semiconductor βελτιστοποιεί το σχήμα, τις διαστάσεις και τα χαρακτηριστικά επιφάνειας των δακτυλίων εστίασης για να εξασφαλίσει βέλτιστη απόδοση χάραξης και μακροζωία. Το στερεό SiC χρησιμοποιείται ευρέως για φορείς γκοφρέτας, υποδοχείς, εικονικές γκοφρέτες, δακτυλίους οδηγούς, μέρη για τη διαδικασία χάραξης, τη διαδικασία CVD κ.λπ.