Μενού Ιστού

Αναζήτηση προϊόντων

Γλώσσα

Προϊόντα

Διαδικασία Επιτάξεως SiC

Οι μοναδικές επικαλύψεις καρβιδίου της VeTek Semiconductor παρέχουν ανώτερη προστασία για τα μέρη γραφίτη στη διεργασία επιτάξεως SiC για την επεξεργασία απαιτητικών ημιαγωγών και σύνθετων ημιαγωγών υλικών. Το αποτέλεσμα είναι η παρατεταμένη διάρκεια ζωής του συστατικού γραφίτη, η διατήρηση της στοιχειομετρίας της αντίδρασης, η αναστολή της μετανάστευσης ακαθαρσιών σε εφαρμογές επιταξίας και ανάπτυξης κρυστάλλων, με αποτέλεσμα αυξημένη απόδοση και ποιότητα.


Οι επικαλύψεις καρβιδίου του τανταλίου (TaC) προστατεύουν τα κρίσιμα εξαρτήματα του κλιβάνου και του αντιδραστήρα σε υψηλές θερμοκρασίες (έως 2200°C) από καυτή αμμωνία, υδρογόνο, ατμούς πυριτίου και λιωμένα μέταλλα. Το VeTek Semiconductor έχει ένα ευρύ φάσμα δυνατοτήτων επεξεργασίας και μέτρησης γραφίτη για να καλύψει τις προσαρμοσμένες απαιτήσεις σας, ώστε να μπορούμε να προσφέρουμε επίστρωση ή πλήρη εξυπηρέτηση με χρέωση, με την ομάδα ειδικών μηχανικών μας έτοιμη να σχεδιάσει τη σωστή λύση για εσάς και τη συγκεκριμένη εφαρμογή σας .


Σύνθετοι κρύσταλλοι ημιαγωγών

Το VeTek Semiconductor μπορεί να παρέχει ειδικές επικαλύψεις TaC για διάφορα εξαρτήματα και φορείς. Μέσω της κορυφαίας διαδικασίας επίστρωσης της VeTek Semiconductor, η επίστρωση TaC μπορεί να αποκτήσει υψηλή καθαρότητα, σταθερότητα υψηλής θερμοκρασίας και υψηλή χημική αντοχή, βελτιώνοντας έτσι την ποιότητα του προϊόντος των στρωμάτων κρυστάλλου TaC/GaN) και EPl και παρατείνοντας τη διάρκεια ζωής των κρίσιμων εξαρτημάτων του αντιδραστήρα.


Θερμομονωτές

Συστατικά ανάπτυξης κρυστάλλων SiC, GaN και AlN, συμπεριλαμβανομένων των χωνευτηρίων, των δοχείων σπόρων, των εκτροπέων και των φίλτρων. Βιομηχανικά συγκροτήματα που περιλαμβάνουν θερμαντικά στοιχεία αντίστασης, ακροφύσια, δακτυλίους θωράκισης και εξαρτήματα συγκόλλησης, εξαρτήματα GaN και SiC επιταξιακού αντιδραστήρα CVD, συμπεριλαμβανομένων φορέων πλακών, δορυφορικών δίσκων, κεφαλών ντους, καπακιών και βάθρων, εξαρτημάτων MOCVD.


Σκοπός:

 ● Φορέας γκοφρέτας LED (Δίοδος εκπομπής φωτός).

● Δέκτης ALD(Semiconductor).

● Υποδοχέας EPI (Διαδικασία επιτάξεως SiC)


Σύγκριση επικάλυψης SiC και επίστρωσης TaC:

Ούτω TaC
Κύρια Χαρακτηριστικά Εξαιρετικά υψηλή καθαρότητα, εξαιρετική αντίσταση στο πλάσμα Εξαιρετική σταθερότητα υψηλής θερμοκρασίας (συμμόρφωση διαδικασίας υψηλής θερμοκρασίας)
Καθαρότητα >99,9999% >99,9999%
Πυκνότητα (g/cm3) 3.21 15
Σκληρότητα (kg/mm2) 2900-3300 6,7-7,2
Αντίσταση [Ωcm] 0,1-15.000 <1
Θερμική αγωγιμότητα (W/m-K) 200-360 22
Συντελεστής θερμικής διαστολής (10-6/℃) 4,5-5 6.3
Εφαρμογή Εξοπλισμός ημιαγωγών Κεραμική σέγα (δακτύλιος εστίασης, κεφαλή ντους, εικονική γκοφρέτα) Ανταλλακτικά SiC Single Crystal Development, Epi, UV LED Εξοπλισμός


View as  
 
Καρβίδιο πορώδους ταντάλου

Καρβίδιο πορώδους ταντάλου

Το Vetek Semiconductor είναι επαγγελματίας κατασκευαστής και ηγέτης των προϊόντων καρβιδίου πορώδους Tantalum στην Κίνα. Το πορώδες καρβίδιο του τανταλίου συνήθως κατασκευάζεται με μέθοδο χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD), εξασφαλίζοντας τον ακριβή έλεγχο του μεγέθους και της κατανομής των πόρων του και είναι ένα υλικό εργαλείο αφιερωμένο σε ακραία περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας. Καλωσορίστε την περαιτέρω διαβουλεύσεις σας.
Δείτε περισσότερα >> Αποστολή Ερώτησης >>
Δακτύλιος οδηγός επίστρωσης TaC

Δακτύλιος οδηγός επίστρωσης TaC

Ο δακτύλιος οδηγού επίστρωσης TAC του Vetek Semiconductor δημιουργείται με την εφαρμογή επικάλυψης καρβιδίου Tantalum σε τμήματα γραφίτη χρησιμοποιώντας μια εξαιρετικά προηγμένη τεχνική που ονομάζεται Χημική εναπόθεση ατμών (CVD). Αυτή η μέθοδος είναι καθιερωμένη και προσφέρει εξαιρετικές ιδιότητες επικάλυψης. Χρησιμοποιώντας τον δακτύλιο οδηγού επίστρωσης TAC, η διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων γραφίτη μπορεί να επεκταθεί σημαντικά, η κίνηση των ακαθαρσιών γραφίτη μπορεί να κατασταλεί και η ποιότητα SIC και AIN ενιαίου κρυστάλλου μπορεί να διατηρηθεί αξιόπιστα. Καλώς ήλθατε για να μας διερευνήσετε.
Δείτε περισσότερα >> Αποστολή Ερώτησης >>
Δακτύλιος καρβιδίου ταντάλου

Δακτύλιος καρβιδίου ταντάλου

Ως προχωρημένος κατασκευαστής και παραγωγός προϊόντων δακτυλίων καρβιδίου Tantalum στην Κίνα, ο δακτύλιος καρβιδίου Tantalum Vetek έχει εξαιρετικά υψηλή σκληρότητα, αντοχή στη φθορά, αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία και χημική σταθερότητα και χρησιμοποιείται ευρέως στο πεδίο κατασκευής ημιαγωγών. Ειδικά σε CVD, PVD, διαδικασία εμφύτευσης ιόντων, διαδικασία χάραξης και επεξεργασία και μεταφορά δίσκων, είναι ένα απαραίτητο προϊόν για την επεξεργασία και την κατασκευή των ημιαγωγών. Ανυπομονώ για την περαιτέρω διαβουλεύσεις σας.
Δείτε περισσότερα >> Αποστολή Ερώτησης >>
Υποστήριξη επίστρωσης καρβιδίου τανταλίου

Υποστήριξη επίστρωσης καρβιδίου τανταλίου

Ως επαγγελματίας κατασκευαστής και εργοστάσιο προϊόντων υποστήριξης επίστρωσης καρβιδίου τανταλίου στην Κίνα, η VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coating Support χρησιμοποιείται συνήθως για επιφανειακή επίστρωση δομικών εξαρτημάτων ή εξαρτημάτων στήριξης σε εξοπλισμό ημιαγωγών, ειδικά για προστασία επιφάνειας βασικών εξαρτημάτων εξοπλισμού σε διαδικασίες κατασκευής ημιαγωγών, όπως CVD και PVD. Καλωσορίστε την περαιτέρω διαβούλευση σας.
Δείτε περισσότερα >> Αποστολή Ερώτησης >>
Οδηγός οδηγού καρβιδίου Tantalum

Οδηγός οδηγού καρβιδίου Tantalum

Η Vetek Semiconductor είναι επαγγελματίας κατασκευαστής και ηγέτης των προϊόντων δακτυλίου οδηγού Tantalum Carbide στην Κίνα. Ο δακτύλιος οδηγού Tantalum Carbide (TAC) είναι ένα συστατικό δακτυλίου υψηλής απόδοσης που κατασκευάζεται από καρβίδιο tantalum, το οποίο χρησιμοποιείται συνήθως στον εξοπλισμό επεξεργασίας ημιαγωγών, ειδικά σε υψηλής θερμοκρασίας και εξαιρετικά διαβρωτικά περιβάλλοντα όπως CVD, PVD, χάραξη και διάχυση. Η Vetek Semiconductor δεσμεύεται να παρέχει προηγμένες λύσεις τεχνολογίας και προϊόντων για τη βιομηχανία ημιαγωγών και καλωσορίζει τις περαιτέρω έρευνες σας.
Δείτε περισσότερα >> Αποστολή Ερώτησης >>
TaC Coating Rotation Susceptor

TaC Coating Rotation Susceptor

Ως επαγγελματίας κατασκευαστής, καινοτόμος και ηγέτης των προϊόντων TaC Coating Rotation Susceptor στην Κίνα. Το VeTek Semiconductor TaC Coating Rotation Susceptor εγκαθίσταται συνήθως σε εξοπλισμό εναπόθεσης χημικών ατμών (CVD) και μοριακής επιτάξεως δέσμης (MBE) για την υποστήριξη και την περιστροφή πλακών για να διασφαλιστεί η ομοιόμορφη εναπόθεση υλικού και η αποτελεσματική αντίδραση. Είναι βασικό συστατικό στην επεξεργασία ημιαγωγών. Καλωσορίστε την περαιτέρω διαβούλευση σας.
Δείτε περισσότερα >> Αποστολή Ερώτησης >>
Ως επαγγελματίας κατασκευαστής και προμηθευτής στην Κίνα, έχουμε το δικό μας εργοστάσιο. Είτε χρειάζεστε προσαρμοσμένες υπηρεσίες για να καλύψετε τις συγκεκριμένες ανάγκες της περιοχής σας είτε θέλετε να αγοράσετε προηγμένες και ανθεκτικές Διαδικασία Επιτάξεως SiC που έγιναν στην Κίνα, μπορείτε να μας αφήσετε ένα μήνυμα.
Συστάσεις ειδήσεων
Ποια είναι η κλίση της θερμοκρασίας του θερμικού πεδίου ενός μοναδικού κλιβάνου;
Ποια είναι η κλίση της θερμοκρασίας του θερμικού πεδίου ενός μοναδικού κλιβάνου;Δείτε περισσότερα >>
Τι είναι το χαλαζία;
Τι είναι το χαλαζία;Δείτε περισσότερα >>
Τα προβλήματα στη διαδικασία χάραξης
Τα προβλήματα στη διαδικασία χάραξηςΔείτε περισσότερα >>
Τι είναι ένα σκάφος γραφίτη PECVD;
Τι είναι ένα σκάφος γραφίτη PECVD;Δείτε περισσότερα >>
Diamond - το μελλοντικό αστέρι των ημιαγωγών
Diamond - το μελλοντικό αστέρι των ημιαγωγώνΔείτε περισσότερα >>
Εξερευνητική εφαρμογή της τεχνολογίας 3D εκτύπωσης στη βιομηχανία ημιαγωγών
Εξερευνητική εφαρμογή της τεχνολογίας 3D εκτύπωσης στη βιομηχανία ημιαγωγώνΔείτε περισσότερα >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept