Διαδικασία Επιτάξεως SiC

Ως επαγγελματίας κατασκευαστής προϊόντων και εργοστασίου CVD TAC Coating Wafer Carrier στην Κίνα, το Vetek Semiconductor CVD TAC Coater Cofer Carrier είναι ένα εργαλείο μεταφοράς πλακιδίων ειδικά σχεδιασμένο για υψηλή θερμοκρασία και διαβρωτικό περιβάλλον στην κατασκευή ημιαγωγών. και ο φορέας πλακιδίων επικάλυψης CVD TAC έχει υψηλή μηχανική αντοχή, εξαιρετική αντοχή στη διάβρωση και θερμική σταθερότητα, παρέχοντας την απαραίτητη εγγύηση για την κατασκευή συσκευών ημιαγωγών υψηλής ποιότητας. Τα περαιτέρω ερωτήματά σας είναι ευπρόσδεκτα.

Το Vetek Semiconductor TAC επικάλυψης έχει ένα εξαιρετικά υψηλό σημείο τήξης (περίπου 3880 ° C). Το υψηλό σημείο τήξης του επιτρέπει να λειτουργεί σε εξαιρετικά υψηλές θερμοκρασίες, ειδικά στην ανάπτυξη των επιταξιακών στρωμάτων νιτριδίου (GAN) στη διαδικασία εναπόθεσης μεταλλικών οργανικών χημικών ατμών (MOCVD). Η Vetek Semiconductor δεσμεύεται να παρέχει στους πελάτες προσαρμοσμένες λύσεις προϊόντων. Ανυπομονούμε να σας ακούσουμε.

Η VeTek Semiconductor είναι ο κορυφαίος κατασκευαστής προϊόντων CVD TAC Coating στην Κίνα. Για πολλά χρόνια, εστιάζουμε σε διάφορα προϊόντα CVD TAC Coating όπως κάλυμμα επίστρωσης CVD TaC, CVD TaC Coating Ring. Το VeTek Semiconductor υποστηρίζει προσαρμοσμένες υπηρεσίες προϊόντων και ικανοποιητικές τιμές προϊόντων και προσβλέπει στην περαιτέρω διαβούλευση σας.

Με την αντοχή της σε υψηλή θερμοκρασία, την χημική αδράνεια και την εξαιρετική απόδοση, οι τσοκ με TAC επικαλυμμένες με το TAC του Vetek είναι σχεδιασμένες για φούρνους ημιαγωγών. Πιστεύουμε ότι τα προϊόντα μας μπορούν να σας φέρουν προηγμένες λύσεις τεχνολογίας και ποιότητας.

Ο σωλήνας TAC επικάλυψης TAC του Vetek Semiconductor αποτελεί βασικό συστατικό για την επιτυχή ανάπτυξη των μονών κρυστάλλων καρβιδίου πυριτίου. Με την υψηλή αντοχή της θερμοκρασίας, τη χημική αδράνεια και την εξαιρετική απόδοση, που εξασφαλίζει την παραγωγή κρυστάλλων υψηλής ποιότητας με συνεπή αποτελέσματα. Εμπιστευθείτε τις καινοτόμες λύσεις μας για την ενίσχυση της μεθόδου PVT σας μεθόδων SIC Crystal Growth Process και να επιτύχετε εξαιρετικά αποτελέσματα.

Η επίστρωση TAC χρησιμοποιείται επί του παρόντος κυρίως σε διεργασίες όπως η ανάπτυξη μονής κρυστάλλου πυριτίου (μέθοδος PVT), ο επιταξιακός δίσκος (συμπεριλαμβανομένου του επιταράτου του σιλικόνου, η επιταξία LED), σε συνδυασμό με την καλή μακροπρόθεσμη σταθερότητα της πλάκας επίστρωσης TAC, το πλάκα Tac της Veteksemicon. Ανυπομονούμε να γίνουμε ο μακροπρόθεσμος συνεργάτης μας.