Οδηγός επικάλυψης TAC δακτυλίους

Λειτουργία δακτυλίων οδηγού επίστρωσης TAC:

Ακριβής έλεγχος ροής αερίου: ΤοΟδηγός επικάλυψης TACείναι στρατηγικά τοποθετημένο στο σύστημα έγχυσης αερίου τουΑντιδραστήρας MOCVD. Η κύρια λειτουργία του είναι να κατευθύνει τη ροή των προδρόμων αερίων και να εξασφαλίσει την ομοιόμορφη κατανομή τους σε όλη την επιφάνεια του υποστρώματος. Αυτός ο ακριβής έλεγχος της δυναμικής ροής αερίου είναι απαραίτητος για την επίτευξη ομοιόμορφης επιταξιακής ανάπτυξης στρώματος και τις επιθυμητές ιδιότητες υλικού.

Θερμική διαχείριση: Ο οδηγός επικάλυψης TAC λειτουργεί συχνά σε αυξημένες θερμοκρασίες λόγω της εγγύτητάς τους με τον θερμαινόμενο ευαισθησία και το υπόστρωμα. Η εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα του TAC βοηθά στην αποτελεσματική διάλυση της θερμότητας, αποτρέποντας την τοπική υπερθέρμανση και διατήρηση ενός σταθερού προφίλ θερμοκρασίας μέσα στη ζώνη αντίδρασης.

Πλεονεκτήματα του TAC στο MOCVD:

Ακραία αντίσταση θερμοκρασίας: Το TAC μπορεί να υπερηφανεύεται για ένα από τα υψηλότερα σημεία τήξης μεταξύ όλων των υλικών, που υπερβαίνει τους 3800 ° C.

Εξαιρετική χημική αδράνεια: Το TAC παρουσιάζει εξαιρετική αντίσταση στη διάβρωση και τη χημική επίθεση από τα αντιδραστικά πρόδρομα αέρια που χρησιμοποιούνται στο MOCVD, όπως η αμμωνία, το σιλάνη και διάφορες μεταλλικές-οργανικές ενώσεις.

Φυσικές ιδιότητες τουΕπίστρωση TAC:

Οφέλη για την απόδοση MOCVD:

Η χρήση του δακτυλίου οδηγού επικάλυψης TAC του Vetek σε εξοπλισμό MOCVD συμβάλλει σημαντικά σε:

Αυξημένος εξοπλισμός uptime: Η ανθεκτικότητα και η εκτεταμένη διάρκεια ζωής του δακτυλίου οδηγού επικάλυψης TAC μειώνουν την ανάγκη για συχνές αντικαταστάσεις, ελαχιστοποιώντας το χρόνο διακοπής της συντήρησης και μεγιστοποιώντας την επιχειρησιακή αποτελεσματικότητα του συστήματος MOCVD.

Βελτιωμένη σταθερότητα της διαδικασίας: Η θερμική σταθερότητα και η χημική αδράνεια του TAC συμβάλλουν σε ένα πιο σταθερό και ελεγχόμενο περιβάλλον αντίδρασης στο θάλαμο MOCVD, ελαχιστοποιώντας τις μεταβολές της διαδικασίας και τη βελτίωση της αναπαραγωγιμότητας.

Βελτιωμένη ομοιομορφία επιταξιακής στρώσης: Ακριβής έλεγχος ροής αερίου που διευκολύνεται από τους δακτυλίους οδηγού επίστρωσης TAC εξασφαλίζει ομοιόμορφη κατανομή προδρόμου, με αποτέλεσμα εξαιρετικά ομοιόμορφηεπιθετική ανάπτυξη στρώματοςμε σταθερό πάχος και σύνθεση.

Επικάλυψη καρβιδίου tantalum (TAC)Σε μικροσκοπική διατομή: