Ποια είναι η διαφορά μεταξύ CVD TAC και Sintered TAC;

1. Τι είναι το καρβίδιο tantalum;

Το Tantalum Carbide (TAC) είναι μια δυαδική ένωση που αποτελείται από ταντάλιο και άνθρακα με τον εμπειρικό τύπο TACX, όπου το Χ συνήθως ποικίλλει στην περιοχή από 0,4 έως 1. Είναι καφέ-γκρίζες σκόνες, συνήθως συσσωρευμένες. Ως σημαντικό μεταλλικό κεραμικό υλικό, το καρβίδιο tantalum χρησιμοποιείται εμπορικά για εργαλεία κοπής και μερικές φορές προστίθεται σε κράματα καρβιδίου βολφραμίου.

Εικόνα 1.

Το κεραμικό καρβίδιο του ταντάλου είναι ένα κεραμικό που περιέχει επτά κρυσταλλικές φάσεις καρβιδίου του ταντάλου. Ο χημικός τύπος είναι το TAC, το κυβικό πλέγμα με επίκεντρο το πρόσωπο.

Εικόνα 2.Tantalum Carbide - Wikipedia

Η θεωρητική πυκνότητα είναι 1,44, το σημείο τήξης είναι 3730-3830 ℃, ο συντελεστής θερμικής διαστολής είναι 8,3 × 10-6, το ελαστικό μέτρο είναι 291GPA, η θερμική αγωγιμότητα είναι 0,22J/cm · S · C και το σημείο τήξης του καρβιδίου του ταντάλου είναι περίπου 3880 ℃, ανάλογα με την καθαρότητα και την μέτρηση. Αυτή η τιμή είναι η υψηλότερη μεταξύ των δυαδικών ενώσεων.

Εικόνα 3.Χημική εναπόθεση ατμών του καρβιδίου τανταλίου στο Tabr5 & Ndash

2. Πόσο ισχυρό είναι το καρβίδιο tantalum;

Με τη δοκιμή της σκληρότητας Vickers, της σκληρότητας θραύσης και της σχετικής πυκνότητας μιας σειράς δειγμάτων, μπορεί να προσδιοριστεί ότι το TAC έχει τις καλύτερες μηχανικές ιδιότητες στα 5.5GPA και 1300 ℃. Η σχετική πυκνότητα, η σκληρότητα του θραύσματος και η σκληρότητα του Vickers της TAC είναι 97,7%, 7,4MPAM1/2 και 21,0GPA αντίστοιχα.

Το καρβίδιο του tantalum ονομάζεται επίσης κεραμικά καρβιδίου Tantalum, το οποίο είναι ένα είδος κεραμικού υλικού με ευρεία έννοια.Οι μέθοδοι προετοιμασίας του καρβιδίου του ταντάλου περιλαμβάνουνCVDμέθοδος, μέθοδος πυροσυσσωμάτωσης, κλπ. Επί του παρόντος, η μέθοδος CVD χρησιμοποιείται συχνότερα σε ημιαγωγούς, με υψηλή καθαρότητα και υψηλό κόστος.

3. Σύγκριση μεταξύ καρβιδίου με πυροσυσσωρευμένο καρβίδιο και καρβίδιο TantalumCVD

Στην τεχνολογία επεξεργασίας των ημιαγωγών, το καρβίδιο του καρβιδίου του καρβιδίου και της απόθεσης χημικών ατμών (CVD) είναι δύο κοινές μέθοδοι για την παρασκευή καρβιδίου του tantalum, οι οποίες έχουν σημαντικές διαφορές στη διαδικασία παρασκευής, της μικροδομής, της απόδοσης και της εφαρμογής.

3.1 Διαδικασία προετοιμασίας

Συσκευασμένο καρβίδιο του κυλίνδρου: Η σκόνη καρβιδίου του ταντάλου είναι πυροσυσσωμάτωση κάτω από υψηλή θερμοκρασία και υψηλή πίεση για να σχηματίσει ένα σχήμα. Αυτή η διαδικασία περιλαμβάνει πυκνότητα σκόνης, ανάπτυξη κόκκων και απομάκρυνση ακαθαρσιών.

CVD Tantalum Carbide: Το Tantalum Carbide Αέρια πρόδρομος χρησιμοποιείται για να αντιδράσει χημικά στην επιφάνεια του θερμαινόμενου υποστρώματος και η μεμβράνη καρβιδίου του ταντάλου εναποτίθεται με στρώμα. Η διαδικασία CVD έχει καλή ικανότητα ελέγχου πάχους φιλμ και ομοιομορφία σύνθεσης.

3.2 Μικροδομή

Συσταδεμένο καρβίδιο του κυλίνδρου: Γενικά, είναι μια πολυκρυσταλλική δομή με μεγάλο μέγεθος κόκκων και πόρους. Η μικροδομή του επηρεάζεται από παράγοντες όπως η θερμοκρασία πυροσυσσωμάτωσης, η πίεση και τα χαρακτηριστικά της σκόνης.

CVD Tantalum Carbide: Είναι συνήθως μια πυκνή πολυκρυσταλλική μεμβράνη με μικρό μέγεθος κόκκων και μπορεί να επιτύχει εξαιρετικά προσανατολισμένη ανάπτυξη. Η μικροδομή της μεμβράνης επηρεάζεται από παράγοντες όπως η θερμοκρασία εναπόθεσης, η πίεση του αερίου και η σύνθεση αερίου φάσης.

3.3 Διαφορές απόδοσης

Εικόνα 4. Διαφορές απόδοσης μεταξύ Sintered TAC και CVD TAC

3.4 Εφαρμογές

Καρβίδιο με πυρκαγιά: Λόγω της υψηλής αντοχής, της υψηλής σκληρότητας και της αντοχής της υψηλής θερμοκρασίας, χρησιμοποιείται ευρέως σε εργαλεία κοπής, ανθεκτικά σε φθορά εξαρτήματα, δομικά υλικά υψηλής θερμοκρασίας και άλλα πεδία. Για παράδειγμα, μπορεί να χρησιμοποιηθεί το καρβίδιο με φρυγανισμένο καρβίδιο για την κατασκευή εργαλείων κοπής, όπως ασκήσεις και κόπτες φρεζαρίσματος για τη βελτίωση της αποτελεσματικότητας της επεξεργασίας και την ποιότητα των επιφανειών.

Καρβίδιο tantalum cvd: Λόγω των ιδιοτήτων του λεπτού φιλμ, της καλής προσκόλλησης και της ομοιομορφίας, χρησιμοποιείται ευρέως σε ηλεκτρονικές συσκευές, υλικά επικάλυψης, καταλύτες και άλλα πεδία. Για παράδειγμα, το καρβίδιο Tantalum CVD μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως διασυνδέσεις για ολοκληρωμένα κυκλώματα, επικαλύψεις ανθεκτικών στη φθορά και φορείς καταλύτη.

-------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------.

Ως κατασκευαστής, προμηθευτής και εργοστάσιο Vetek, ο Vetek Semiconductor είναι ένας κορυφαίος κατασκευαστής υλικών επίστρωσης καρβιδίου Tantalum για τη βιομηχανία ημιαγωγών.

Τα κύρια προϊόντα μας περιλαμβάνουνΕξαρτήματα επικαλυμμένα με καρβίδιο καρβιδίουCVD, Sintered TAC επικαλυμμένα με μέρη για την ανάπτυξη κρυστάλλων SIC ή τις διαδικασίες επιταξίας ημιαγωγών. Τα κύρια προϊόντα μας είναι οι δακτύλιοι οδήγησης με επικάλυψη καρβιδίου Tantalum, δακτύλιοι με επικάλυψη TAC, κομμάτια Half Moon Tactalum, Tantalum Carbide Coated Planetary Rotating Disks (Aixtron G10), TAC επικαλυμμένα με Crucbles. Δαχτυλίδια επικαλυμμένα με TAC. TAC επικαλυμμένο με πορώδες γραφίτη. Οι επικαλυμμένοι με καρβίδιο του καρβιδίου. Οδηγός επικαλυμμένου με TAC δακτυλίους. TAC TANTALUM CARBIDE επικαλυμμένες με πλάκες. TAC επικαλυμμένα με δίσκους δισκίων. Κάπια γραφίτη επικαλυμμένα με TAC. Τα μπλοκ με επικάλυψη TAC κ.λπ., με καθαρότητα μικρότερη από 5ppm για την κάλυψη των απαιτήσεων των πελατών.

Εικόνα 5.

Ο Vetek Semiconductor δεσμεύεται να γίνει καινοτόμος στη βιομηχανία επίστρωσης καρβιδίου Tantalum μέσω συνεχούς έρευνας και ανάπτυξης επαναληπτικών τεχνολογιών. 

Εάν ενδιαφέρεστε για τα προϊόντα TAC, μη διστάσετε να επικοινωνήσετε απευθείας μαζί μας.

Mob: +86-180 6922 0752

Whatsapp: +86 180 6922 0752

Email: anny@veteksemi.com