TAC Επικάλυψη Αναστολής Επικάλυψης

Το Vetek Semiconductor TAC Coating Coating Sensceptor είναι ένα βασικό συστατικό για το χειρισμό των πλακιδίων στην επεξεργασία ημιαγωγών. ΤουΤιΜαςέχει εξαιρετική ανοχή υψηλής θερμοκρασίας (σημείο τήξης έως 3880 ° C), χημική σταθερότητα και αντοχή στη διάβρωση, η οποία εξασφαλίζει υψηλή ακρίβεια και υψηλή ποιότητα στην επεξεργασία των δισκίων.

TAC Coating Coating Syceptor (Tantalum Carbon Coatation Restation Sensceptor) είναι ένα βασικό στοιχείο εξοπλισμού που χρησιμοποιείται στην επεξεργασία ημιαγωγών. Συνήθως εγκαθίσταται στοΧημική εναπόθεση ατμών (CVD)και εξοπλισμός μοριακής δέσμης (MBE) για την υποστήριξη και την περιστροφή των πλακών για να εξασφαλιστεί η ενιαία εναπόθεση υλικού και η αποτελεσματική αντίδραση. Αυτός ο τύπος προϊόντος βελτιώνει σημαντικά τη διάρκεια ζωής και την απόδοση του εξοπλισμού σε υψηλή θερμοκρασία και διαβρωτικό περιβάλλον με επικάλυψη του υποστρώματος μεεπικάλυψη άνθρακα (TAC).

Το TAC Coating Coating Sensceptor αποτελείται συνήθως από επικάλυψη TAC και γραφίτη ή καρβίδιο πυριτίου ως υλικό υποστρώματος. Το TAC είναι ένα εξαιρετικά υψηλό κεραμικό υλικό θερμοκρασίας με εξαιρετικά υψηλό σημείο τήξης (σημείο τήξης μέχρι 3880 ° C), η σκληρότητα (σκληρότητα Vickers είναι περίπου 2000 HK) και εξαιρετική αντοχή στη χημική διάβρωση. Το Vetek Semiconductor μπορεί να καλύψει αποτελεσματικά και ομοιόμορφα την επίστρωση άνθρακα του ταντάλου στο υλικό του υποστρώματος μέσω της τεχνολογίας CVD.

Το SESCEPTOR περιστροφής είναι συνήθως κατασκευασμένος από υψηλή θερμική αγωγιμότητα και υλικά υψηλής αντοχής (γραφίτης ήκαρβίδιο πυριτίου), η οποία μπορεί να παρέχει καλή μηχανική υποστήριξη και θερμική σταθερότητα σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας. Ο τέλειος συνδυασμός των δύο καθορίζει την τέλεια απόδοση του Sensceptor περιστροφής επικάλυψης TAC στην υποστήριξη και τις περιστρεφόμενες πλακές.

TAC Coating Coating Syceptor υποστηρίζει και περιστρέφει το δίσκο στη διαδικασία CVD. Η σκληρότητα του TAC του Vickers είναι περίπου 2000 HK, η οποία του επιτρέπει να αντισταθεί στην επαναλαμβανόμενη τριβή του υλικού και να διαδραματίσει έναν καλό υποστηρικτικό ρόλο, εξασφαλίζοντας έτσι ότι το αέριο αντίδρασης είναι ομοιόμορφα κατανεμημένο στην επιφάνεια του δίσκου και το υλικό εναποτίθεται ομοιόμορφα. Ταυτόχρονα, η ανοχή υψηλής θερμοκρασίας και η αντοχή στη διάβρωση της επίστρωσης TAC επιτρέπουν τη χρήση για μεγάλο χρονικό διάστημα σε υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικές ατμόσφαιρες, οι οποίες αποφεύγουν αποτελεσματικά τη μόλυνση του δίσκου και του φορέα.

Επιπλέον, η θερμική αγωγιμότητα του TAC είναι 21 W/M · K, η οποία έχει καλή μεταφορά θερμότητας. Ως εκ τούτου, ο ευαισθητής περιστροφής επικάλυψης TAC μπορεί να θερμαίνει ομοιόμορφα το δίσκο υπό συνθήκες υψηλής θερμοκρασίας και να εξασφαλίσει την ομοιομορφία της διαδικασίας εναπόθεσης αερίου μέσω της περιστροφικής κίνησης, διατηρώντας έτσι τη συνοχή και την υψηλή ποιότητα τουαύξηση.

Επικάλυψη καρβιδίου (TAC) σε μικροσκοπική διατομή：

Φυσικές ιδιότητες της επίστρωσης TAC：

Καταστήματα SESCEPTOR SESCEPOR: