Μαλακή τσόχα από ανθρακονήματα με βάση το PAN

1. Βασικοί Παράγοντες Απόδοσης

• Υψηλή καθαρότητα:Ποιότητες υψηλής καθαρότητας με περιεκτικότητα σε τέφρα που διατηρούνται κάτω από 20 ppm, για την αποφυγή μόλυνσης κατά την ανάπτυξη ευαίσθητων ημιαγωγών.
• Θερμική απόδοση:Η χαμηλή θερμική αγωγιμότητα 0,1-0,13 W/(m*k) στους 25°C διατηρεί σταθερές διαβαθμίσεις θερμοκρασίας και μειώνει την απώλεια ενέργειας.
• Αντοχή στη θερμότητα:Αξιόπιστη σταθερότητα ακόμη και σε περιβάλλοντα άνω των 2200°C.
• Δομική ακεραιότητα:Η διαδικασία διαμόρφωσης με πίδακα αέρα διατηρεί τις ίνες ομοιόμορφες. Αυτό αποτρέπει τα hotspots και την κόπωση των υλικών που συχνά διαταράσσουν τους μεγάλους κύκλους ανάπτυξης.  

3. Εφαρμογές

Παραγωγή ημιαγωγών:Αυτό είναι ένα βασικό μονωτικό στρώμα για εγκαταστάσεις κλιβάνων ανάπτυξης μονοκρυσταλλικού πυριτίου και κρυστάλλων SiC.

Επικοινωνίες οπτικών ινών:Ιδανικό για χρήση σε κλιβάνους πυροσυσσωμάτωσης, πύργους έλξης και παραγωγή ράβδων υψηλής θερμοκρασίας.

Προηγμένη Έρευνα:Εμπιστευόμαστε σε φούρνους ανάπτυξης ζαφείρι και εξειδικευμένα συστήματα καθαρισμού υψηλής θερμοκρασίας.

4. Γιατί να επιλέξετε το VETEK;

Ταχύτερη απόδοση:Χρησιμοποιώντας υλικά χαμηλής ειδικής θερμότητας, κάναμε τον θερμικό κύκλο πολύ πιο γρήγορο—αυτό αυξάνει άμεσα την καθημερινή σας απόδοση.

Αξιόπιστη θωράκιση:Η εστίασή μας στην παραγωγή είναι στον αυστηρό έλεγχο της πυκνότητας των ινών. εξαλείφουμε τα αδύναμα σημεία, ώστε να έχετε αξιόπιστη θωράκιση σε ολόκληρο τον θάλαμο.

Πρότυπα HPSI:Για τις διαδικασίες HPSI και RF, τα πρότυπα υψηλής καθαρότητας μας έχουν σχεδιαστεί ειδικά για να χειρίζονται αυτές τις ευαίσθητες απαιτήσεις υψηλής ειδικής αντίστασης.
Απλή εγκατάσταση:Δεδομένου ότι το υλικό είναι εκ φύσεως εύκαμπτο, μπορεί να κοπεί με ακρίβεια ώστε να ταιριάζει σε περίπλοκες γεωμετρίες, κάτι που πραγματικά βοηθά στην απλοποίηση της όλης διαδικασίας εγκατάστασης.