Υψηλή καθαρότητα γραφίτη μαλακή αίσθηση

Υλικό μόνωσης θερμικού πεδίου Υλικά Εφαρμογή υποβάθρου εφαρμογής

Τα υλικά μόνωσης θερμικού πεδίου επικαλύπτονται στην περιφέρεια των λειτουργικών εξαρτημάτων θερμικού πεδίου και μέσα σε διάφορα σώματα του κλιβάνου και χρησιμοποιούνται κυρίως για την κατασκευή θερμικού χώρου και θερμομόνωσης. Παρόλο που οι ίνες άνθρακα έχουν υψηλή θερμική αγωγιμότητα, το υλικό από ίνες άνθρακα είναι ένα χαλαρό και πορώδες πολυμερές ινών άνθρακα. Οι ίνες βασίζονται στην τριβή για να διατηρήσουν το σχήμα του αισθητήρα. Οι ίνες επικαλύπτονται μεταξύ τους, η οποία είναι μια επαφή σημείου, η οποία μειώνει σημαντικά τη θερμότητα που μεταφέρεται μέσω της διαδρομής αγωγιμότητας στερεάς θερμότητας. Ειδικά σε θερμικά πεδία υψηλής θερμοκρασίας (όπως πάνω από 800 ℃), η ένταση ακτινοβολίας αυξάνεται και η θερμική ακτινοβολία γίνεται η κύρια μορφή μεταφοράς θερμότητας. Τα κύματα ακτινοβολίας αντικατοπτρίζονται συνεχώς μεταξύ των ινών και διαλύονται μέσα στο αισθητήρα, επιτυγχάνοντας έτσι την επίδραση της θερμομόνωσης.

Το πιο συχνά χρησιμοποιούμενο θερμικό μόνωσης είναι υψηλής καθαρότητας γραφίτη μαλακή αισθητή σε διαφορετικές μορφές. Υψηλή καθαρότητα γραφίτη μαλακή αίσθηση είναι κατασκευασμένη από λεπτές ίνες. Το μαλακό γραφίτη μαλακής καθαρότητας είναι υφασμένο σε σχετικά λεπτά φύλλα, στη συνέχεια κόβεται στο επιθυμητό σχήμα και σφιχτά λυγισμένο σε λογική ακτίνα.

Υψηλή καθαρότητα γραφίτη Soft Felt ταξινόμηση

Σύμφωνα με τις διαφορετικές πρώτες ύλες που χρησιμοποιήθηκαν, η υψηλή καθαρότητα γραφίτη Soft Felt μπορεί να χωριστεί σε τρεις κατηγορίες: βασισμένες σε pan, βισκόζη και άσφαλτο με βάση:

Σε σύγκριση με τα υλικά με βάση το PAN και την άσφαλτο, τα υλικά άνθρακα με βάση την ιξόζη έχουν καλύτερη απόδοση σε θερμομόνωση. Ως εκ τούτου, η μαλακή αισθητήρα υψηλής καθαρότητας με βάση την ιξόζη είναι επίσης η κύρια επιλογή για τα υλικά του άνθρακα ημιαγωγού και φωτοβολταϊκού θερμικού πεδίου.

Εφαρμογή της υψηλής καθαρότητας γραφίτη μαλακή έννοια στη μέθοδο PVT

Η μέθοδος PVT χρησιμοποιείται συνήθως για την καλλιέργεια μονού κρυστάλλου καρβιδίου πυριτίου στον κλάδο. Η σκόνη SIC γεμίζει με το κάτω μέρος του γραφίτη Crucible και ο κρύσταλλος σπόρου SIC συνδέεται μέσα στο κάλυμμα του Graphite Crucible με μια ορισμένη απόσταση από την επιφάνεια της πρώτης ύλης και στη συνέχεια ο γρατζής του γραφίτη τοποθετείται στο σώμα θέρμανσης γραφίτη στο σύνολό του. Ρυθμίζοντας τη θερμοκρασία της εξωτερικής υψηλής καθαρότητας γραφίτη μαλακή αίσθηση, η πρώτη ύλη SIC τοποθετείται στη ζώνη υψηλής θερμοκρασίας και ο κρύσταλλος σπόρου SIC βρίσκεται στη ζώνη χαμηλής θερμοκρασίας ανάλογα.

Σε αυτή τη διαδικασία, η περιοχή θερμικού πεδίου που αποτελείται από το χωνευτήριο και το περιβάλλον θερμικό μόνωσης είναι ο σημαντικότερος τομέας για την ανάπτυξη του SIC μονής κρυστάλλου. Ο θάλαμος ανάπτυξης των κρυστάλλων μπορεί να φτάσει σε πολύ υψηλή θερμοκρασία (έως 3000 ℃), σε αυτή την υψηλή θερμοκρασία, ο Vetek Semiconductor High Purity Graphite Soft Felt μπορεί να αντέξει σε τέτοια υψηλή θερμοκρασία και σε τέτοια υψηλή θερμοκρασία δεν αντιδρά με την εξάχνωση SIC, με εξαιρετική απόδοση θερμομόνωσης, θερμική μόνωση απόδοσης για να εξασφαλίσει την ανάπτυξη υψηλής ποιότητας SIC Crystal.

Το Vetek Semiconductor High Purity Graphite Soft Felt είναι ένα απαραίτητο υλικό μόνωσης σε επαγωγικούς κλιβάνους. Οι κάβεροι επαγωγής παράγουν πολλή θερμότητα όταν εργάζονται και η υψηλή καθαρότητα γραφίτη μαλακή αίσθηση έχει χαμηλή θερμική αγωγιμότητα και χαμηλή ειδική θερμότητα, η οποία μπορεί να εξασφαλίσει τη σταθερότητα και την ομοιομορφία της θερμοκρασίας στον κλίβανο και να βελτιώσει τη θερμική απόδοση του κλιβάνου. Ταυτόχρονα, ο Graphite Soft Graphite υψηλής καθαρότητας παίζει επίσης ρόλο στη σφράγιση και την απομόνωση του σώματος του κλιβάνου επαγωγής, εμποδίζοντας τη διαρροή θερμότητας και αερίου στον κλίβανο.

Φύλλο δεδομένων για Vetek Semiconductor High Purity High Purity Graphite Soft Felt

Vetek Semiconductor High Purity High Purity Graphite Soft Felt Products