Δακτύλιος καρβιδίου ταντάλου

Ο δακτύλιος Tantalum Carbide (TAC) του Vetek Semiconductor χρησιμοποιεί γραφίτη υψηλής ποιότητας ως υλικό πυρήνα και, χάρη στη μοναδική του δομή, είναι σε θέση να διατηρήσει το σχήμα και τις μηχανικές του ιδιότητες υπό τις ακραίες συνθήκες ενός κλιβάνου κρυστάλλου ανάπτυξης. Η υψηλή αντοχή στη θερμότητα του γραφίτη του δίνει εξαιρετική σταθερότητα σε όλο τοδιαδικασία ανάπτυξης κρυστάλλων.

Το εξωτερικό στρώμα του δακτυλίου TAC καλύπτεται με έναεπίστρωση καρβιδίου τανταλίου, ένα υλικό γνωστό για την εξαιρετικά υψηλή σκληρότητα του, σημείο τήξης άνω των 3880 ° C και εξαιρετική αντίσταση στη χημική διάβρωση, καθιστώντας το ιδιαίτερα κατάλληλο για περιβάλλοντα λειτουργίας υψηλής θερμοκρασίας. Η επικάλυψη καρβιδίου του ταντάλου παρέχει ένα ισχυρό εμπόδιο για την αποτελεσματική πρόληψη των βίαιων χημικών αντιδράσεων και τη διασφάλιση ότι ο πυρήνας γραφίτη δεν διαβρώνεται από αέρια υψηλής θερμοκρασίας.

Κατά την διάρκειαΑνάπτυξη κρυστάλλινου καρβιδίου πυριτίου (sic), οι σταθερές και ομοιόμορφες συνθήκες ανάπτυξης είναι το κλειδί για την εξασφάλιση κρυστάλλων υψηλής ποιότητας. Ο δακτύλιος επίστρωσης καρβιδίου του ταντάλου παίζει ζωτικό ρόλο στη ρύθμιση της ροής αερίου και στη βελτιστοποίηση της κατανομής της θερμοκρασίας μέσα στον κλίβανο. Ως δακτύλιος οδηγού αερίου, ο δακτύλιος TAC εξασφαλίζει ομοιόμορφη κατανομή θερμικής ενέργειας και αερίων αντίδρασης, εξασφαλίζοντας την ομοιόμορφη ανάπτυξη και τη σταθερότητα των κρυστάλλων SIC.

Επιπλέον, η υψηλή θερμική αγωγιμότητα του γραφίτη σε συνδυασμό με την προστατευτική επίδραση του επικαλυμμένου με καρβίδιο του ταντάλου επιτρέπει στον δακτύλιο οδηγού TAC να λειτουργεί σταθερά στο περιβάλλον υψηλής θερμοκρασίας που απαιτείται για την ανάπτυξη κρυστάλλων SIC. Η δομική αντοχή και η σταθερότητα των διαστάσεων είναι ζωτικής σημασίας για τη διατήρηση των συνθηκών στον κλίβανο, γεγονός που επηρεάζει άμεσα την ποιότητα των παραγόμενων κρυστάλλων. Με τη μείωση των θερμικών διακυμάνσεων και των χημικών αντιδράσεων στο πλαίσιο του φούρνου, ο δακτύλιος επικάλυψης TAC βοηθά στη δημιουργία κρυστάλλων με εξαιρετικές ηλεκτρονικές ιδιότητες για εφαρμογές ημιαγωγών υψηλής απόδοσης.

Το δακτύλιο καρβιδίου Tantalum του Vetek Semiconductor είναι ένα βασικό συστατικό τουΚλίμακα κρυστάλλινου καρβιδίου πυριτίουκαι ξεχωρίζει για την εξαιρετική ανθεκτικότητα, τη θερμική σταθερότητα και τη χημική αντίσταση. Ο μοναδικός συνδυασμός του πυρήνα γραφίτη και της επίστρωσης TAC του επιτρέπει να διατηρεί δομική ακεραιότητα και λειτουργικότητα υπό σκληρές συνθήκες. Με τον ακριβή έλεγχο της ροής θερμοκρασίας και αερίου μέσα στον κλίβανο, ο δακτύλιος επικάλυψης TAC παρέχει τις απαραίτητες συνθήκες για την παραγωγή κρυστάλλων SIC υψηλής ποιότητας, οι οποίοι είναι κρίσιμοι για την παραγωγή συστατικών ημιαγωγών αιχμής.

Επικάλυψη καρβιδίου (TAC) σε μικροσκοπική διατομή：