TAC Επικάλυψη Crucible

Προσφορές ημιαγωγώνCVD TAC επικαλυμμένα σταυροίΣυνήθως παίζετε τους ακόλουθους βασικούς ρόλους στη μέθοδο PVT SIC Single Crystal Growth Process:

Η μέθοδος PVT αναφέρεται στην τοποθέτηση ενός κρυστάλλου σπόρου SIC πάνω από το Crucible με επικαλυμμένο με TAC και τοποθετώντας σκόνη SIC ως πρώτη ύλη στο κάτω μέρος του χωνευτηρίου. Σε ένα κλειστό περιβάλλον υψηλής θερμοκρασίας και χαμηλής πίεσης, η σκόνη SIC εξομοιώνει και κάτω από τη δράση της διαβάθμισης της θερμοκρασίας και της διαφοράς συγκέντρωσης, τοΣκόνημεταφέρεται στην περιοχή του κρυστάλλου σπόρων και φτάνει σε υπερκορεσμένη κατάσταση μετά την ανακρυστάλλωση. Επομένως, η μέθοδος PVT μπορεί να επιτύχει ελεγχόμενη ανάπτυξη του μεγέθους του κρυστάλλου SIC και της συγκεκριμένης μορφής κρυστάλλου.

● Θερμική σταθερότητα της ανάπτυξης κρυστάλλων

Το Vetek Semiconductor TAC Coated Crucibles έχει εξαιρετική θερμική σταθερότητα (μπορεί να παραμείνει σταθερή κάτω από 2200 ℃), η οποία συμβάλλει στη διατήρηση της δομικής τους ακεραιότητας ακόμη και στις εξαιρετικά υψηλές θερμοκρασίες που απαιτούνται για την ανάπτυξη των κρυστάλλων. Αυτή η φυσική ιδιότητα επιτρέπει στο SIC επικαλυμμένο με γραφίτη Crucible να ελέγχει με ακρίβεια τη διαδικασία ανάπτυξης κρυστάλλων, με αποτέλεσμα τους πολύ ομοιόμορφους κρυστάλλους και χωρίς ελαττώματα.

● Εξαιρετικό χημικό φράγμα

Τα Coated Crucibles TAC συνδυάζουν μια επίστρωση καρβιδίου με ένα γρατζουνιές υψηλής καθαρότητας για να παρέχουν εξαιρετική αντίσταση σε ένα ευρύ φάσμα διαβρωτικών χημικών ουσιών και τετηγμένων υλικών που συνήθως συναντώνται κατά τη διάρκεια της ανάπτυξης SIC μονής κρυστάλλου. Αυτή η ιδιότητα είναι κρίσιμη για την επίτευξη κρυστάλλων υψηλής ποιότητας με ελάχιστα ελαττώματα.

● Απόδοση δονήσεων για ένα σταθερό περιβάλλον ανάπτυξης

Οι εξαιρετικές ιδιότητες απόσβεσης του TAC επικαλυμμένου χωνευτηρίου ελαχιστοποιούν τις δονήσεις και το θερμικό σοκ μέσα στο Crucible γραφίτη, συμβάλλοντας περαιτέρω σε ένα σταθερό και ελεγχόμενο περιβάλλον ανάπτυξης κρυστάλλων. Με τον μετριασμό αυτών των πιθανών πηγών παρεμβολών, η επικάλυψη TAC επιτρέπει την ανάπτυξη μεγαλύτερων, πιο ομοιόμορφων κρυστάλλων με μειωμένη πυκνότητα ελαττωμάτων, τελικά αυξάνοντας τις αποδόσεις των συσκευών και βελτιώνοντας την απόδοση των συσκευών.

● Εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα

Τα επικαλυμμένα με Veteksemicon Crucibles έχουν εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα, η οποία βοηθά το γραφίτη Crucible να μεταφέρει τη θερμότητα γρήγορα και ομοιόμορφα. Αυτό καθορίζει τον ακριβή έλεγχο της θερμοκρασίας σε όλη τη διαδικασία ανάπτυξης κρυστάλλων, ελαχιστοποιώντας τα κρυσταλλικά ελαττώματα που προκαλούνται από θερμικές κλίσεις.

Επικάλυψη καρβιδίου (TAC) σε μικροσκοπική διατομή

Φυσικές ιδιότητες τουΕπίστρωση καρβιδίου του ταντάλου

Καταστήματα παραγωγής ημιαγωγών Vetek