Τσακ επικάλυψη TAC

Το TAC Coating Chuck του Vetek Semiconductor είναι η ιδανική λύση για την επίτευξη εξαιρετικών αποτελεσμάτων στη διαδικασία SIC EPI. Με την επικάλυψη καρβιδίου του ταντάλου, την αντίσταση υψηλής θερμοκρασίας και τη χημική αδράνεια, το προϊόν μας σας δίνει τη δυνατότητα να παράγετε κρυστάλλους υψηλής ποιότητας με ακρίβεια και αξιοπιστία.

Το καρβίδιο TAC tantalum είναι ένα υλικό που χρησιμοποιείται συνήθως για την επικάλυψη της επιφάνειας των εσωτερικών τμημάτων του επιταξιακού εξοπλισμού. Έχει τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:

● Εξαιρετική αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία: Η επίστρωση καρβιδίου του ταντάλου μπορεί να αντέξει τις θερμοκρασίες μέχρι τους 2200 ° C, καθιστώντας τους ιδανικές για εφαρμογές σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας, όπως επιτραπέζιους θαλάμους αντίδρασης.

● Υψηλή σκληρότητα: Η σκληρότητα του καρβιδίου του ταντάλου φτάνει περίπου 2000 HK, το οποίο είναι πολύ πιο δύσκολο από ό, τι χρησιμοποιείται συνήθως από ανοξείδωτο χάλυβα ή κράμα αλουμινίου, το οποίο μπορεί να αποτρέψει αποτελεσματικά τη φθορά της επιφάνειας.

● Ισχυρή χημική σταθερότητα: Η επίστρωση καρβιδίου Tantalum αποδίδει καλά σε χημικά διαβρωτικά περιβάλλοντα και μπορεί να επεκτείνει σημαντικά τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων επιταξιακής εξοπλισμού.

● Καλή ηλεκτρική αγωγιμότητα: Η επιφάνεια επίστρωσης έχει καλή ηλεκτρική αγωγιμότητα, η οποία ευνοεί την ηλεκτροστατική απελευθέρωση και την αγωγιμότητα θερμότητας.

Αυτές οι ιδιότητες καθιστούν την επίστρωση καρβιδίου tactalum ένα ιδανικό υλικό για την κατασκευή κρίσιμων εξαρτημάτων, όπως εσωτερικοί δακτύλιοι, τοίχους του θαλάμου αντίδρασης και στοιχεία θέρμανσης για επιταξιακό εξοπλισμό. Με την επικάλυψη αυτών των εξαρτημάτων με TAC, μπορεί να βελτιωθεί η συνολική διάρκεια απόδοσης και η διάρκεια ζωής του επιταξιακού εξοπλισμού.

Για την επιταξία καρβιδίου του πυριτίου, το κομμάτι επικάλυψης TAC μπορεί επίσης να διαδραματίσει σημαντικό ρόλο. Η επιφανειακή επικάλυψη είναι ομαλή και πυκνή, η οποία είναι ευνοϊκή για το σχηματισμό ταινιών καρβιδίου πυριτίου υψηλής ποιότητας. Ταυτόχρονα, η εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα του TAC μπορεί να συμβάλει στη βελτίωση της ομοιομορφίας της κατανομής της θερμοκρασίας μέσα στον εξοπλισμό, βελτιώνοντας έτσι την ακρίβεια ελέγχου της θερμοκρασίας της επιταξιακής διαδικασίας και τελικά την επίτευξη υψηλότερης ποιότηταςεπιταξιακό καρβίδιο του πυριτίουανάπτυξη στρώματος.

Vetek Semiconductor's Products Shops: