Προϊόντα

Χαρακτηριστικό δισκίου Ένα εργαλείο σύσφιξης δίσκων στη διαδικασία ημιαγωγού και χρησιμοποιείται ευρέως σε PVD, CVD, ETCH και άλλες διαδικασίες. Το Chuck του Semiconductor παίζει βασικούς ρόλους στην παραγωγή ημιαγωγών, επιτρέποντας γρήγορη, υψηλής ποιότητας παραγωγής. Με την εσωτερική κατασκευή, την ανταγωνιστική τιμολόγηση και την ισχυρή υποστήριξη Ε & Α, ο Vetek Semiconductor υπερέχει σε υπηρεσίες OEM/ODM για εξαρτήματα ακριβείας.

Το σκάφος SIC Wafer χρησιμοποιείται για τη μεταφορά του δισκίου, κυρίως για τη διαδικασία οξείδωσης και διάχυσης, για να διασφαλιστεί ότι η θερμοκρασία μπορεί να κατανεμηθεί ομοιόμορφα στην επιφάνεια του δίσκου. Η σταθερότητα υψηλής θερμοκρασίας και η υψηλή θερμική αγωγιμότητα των υλικών SIC εξασφαλίζουν αποτελεσματική και αξιόπιστη επεξεργασία ημιαγωγών. Η Vetek Semiconductor δεσμεύεται να παρέχει ποιοτικά προϊόντα σε ανταγωνιστικές τιμές.

Το Vetek Semiconductor παρέχει σωλήνες επεξεργασίας SIC υψηλής απόδοσης για την κατασκευή ημιαγωγών. Οι σωλήνες διεργασίας SIC Excel σε οξείδωση, διεργασίες διάχυσης. Με ανώτερη ποιότητα και χειροτεχνία, αυτοί οι σωλήνες προσφέρουν σταθερότητα υψηλής θερμοκρασίας και θερμική αγωγιμότητα για αποτελεσματική επεξεργασία ημιαγωγών. Προσφέρουμε ανταγωνιστική τιμολόγηση και επιδιώκουμε να είναι ο μακροπρόθεσμος συνεργάτης σας στην Κίνα.

Το SiC Cantilever Paddle της VeTek Semiconductor χρησιμοποιείται σε φούρνους θερμικής επεξεργασίας για το χειρισμό και τη στήριξη σκαφών γκοφρέτας. Η σταθερότητα σε υψηλή θερμοκρασία και η υψηλή θερμική αγωγιμότητα του υλικού SiC εξασφαλίζουν υψηλή απόδοση και αξιοπιστία στη διαδικασία επεξεργασίας ημιαγωγών. Δεσμευόμαστε να παρέχουμε προϊόντα υψηλής ποιότητας σε ανταγωνιστικές τιμές και ανυπομονούμε να γίνουμε ο μακροπρόθεσμος συνεργάτης σας στην Κίνα.

Διαδικασία ALD, σημαίνει διαδικασία επιταξίας ατομικού στρώματος. Οι κατασκευαστές συστήματος Vetek Semiconductor και ALD έχουν αναπτύξει και παράγουν την SIC επικαλυμμένη με SIC πλανητικές ευαισθητές που πληρούν τις υψηλές απαιτήσεις της διαδικασίας ALD για να διανείμουν ομοιόμορφα τη ροή του αέρα πάνω από το υπόστρωμα. Ταυτόχρονα, η επικάλυψη CVD υψηλής καθαρότητας εξασφαλίζει καθαρότητα στη διαδικασία. Καλώς ήλθατε για να συζητήσετε τη συνεργασία μαζί μας.

Το VeTek Semiconductor's TaC Coated Graphite Susceptor χρησιμοποιεί τη μέθοδο χημικής εναπόθεσης ατμού (CVD) για την προετοιμασία επικάλυψης καρβιδίου του τανταλίου στην επιφάνεια των τμημάτων γραφίτη. Αυτή η διαδικασία είναι η πιο ώριμη και έχει τις καλύτερες ιδιότητες επίστρωσης. Το TaC Coated Graphite Susceptor μπορεί να επεκτείνει τη διάρκεια ζωής των εξαρτημάτων γραφίτη, να εμποδίσει τη μετανάστευση ακαθαρσιών γραφίτη και να εξασφαλίσει την ποιότητα της επιτάξεως. Ανυπομονούμε για το ερώτημά σας.