Νέα

Η εναπόθεση χημικών ατμών (CVD) στην κατασκευή ημιαγωγών χρησιμοποιείται για την κατάθεση υλικών λεπτού φιλμ στο θάλαμο, συμπεριλαμβανομένου του SiO2, της αμαρτίας κλπ. Και οι συνήθως χρησιμοποιούνται τύποι περιλαμβάνουν PECVD και LPCVD. Ρυθμίζοντας τον τύπο θερμοκρασίας, πίεσης και αντίδρασης, η CVD επιτυγχάνει υψηλή καθαρότητα, ομοιομορφία και καλή κάλυψη φιλμ για την κάλυψη διαφορετικών απαιτήσεων διαδικασιών.

Αυτό το άρθρο περιγράφει κυρίως τις ευρείες προοπτικές εφαρμογής των κεραμικών καρβιδίου πυριτίου. Επικεντρώνεται επίσης στην ανάλυση των αιτίων της πυροσυσσωμάτωσης ρωγμών σε κεραμικά καρβιδίου πυριτίου και στις αντίστοιχες λύσεις.

Η τεχνολογία χάραξης στην κατασκευή ημιαγωγών αντιμετωπίζει συχνά προβλήματα όπως η επίδραση φόρτωσης, η επίδραση μικρο-αυλής και η επίδραση φόρτισης, τα οποία επηρεάζουν την ποιότητα του προϊόντος. Τα διαλύματα βελτίωσης περιλαμβάνουν τη βελτιστοποίηση της πυκνότητας του πλάσματος, τη ρύθμιση της σύνθεσης του αερίου αντίδρασης, τη βελτίωση της αποτελεσματικότητας του συστήματος κενού, τον σχεδιασμό της λογικής διάταξης λιθογραφίας και την επιλογή των κατάλληλων υλικών μάσκας χάραξης και των συνθηκών διεργασίας.