Δαχτυλίδι υποστήριξης επικαλυμμένου με SIC

Είναι ημιαγωγός, ένας κορυφαίος κατασκευαστής και προμηθευτής που εδρεύει στην Κίνα, ειδικεύεται στην παραγωγή μιας σειράς προϊόντων συμπεριλαμβανομένωνΔαχτυλίδια στήριξης επικαλυμμένων με SIC, επιστρώσεις καρβιδίου του πυριτίου CVD, επικαλύψεις καρβιδίου του τανταλίου, χύμα SiC, σκόνες SiC και υλικά SiC υψηλής καθαρότητας. Η αφοσίωσή μας έγκειται στην παροχή ολοκληρωμένης τεχνικής βοήθειας και βέλτιστων αναλύσεων προϊόντων προσαρμοσμένων στον τομέα των ημιαγωγών. Μη διστάσετε να επικοινωνήσετε μαζί μας για περισσότερες πληροφορίες και βοήθεια.

Είναι ημιαγωγός'μικρόΔαχτυλίδια στήριξης επικαλυμμένων με SICείναι μια νέα γενιά υλικών ανθεκτικών σε υψηλή θερμοκρασία. Ως ανθεκτικές στη διάβρωση επικαλύψεις, ανθεκτικές στην οξείδωση επικαλύψεις και ανθεκτικές σε φθορά, μπορούν να χρησιμοποιηθούν σε περιβάλλοντα άνω των 1650 ℃ και χρησιμοποιούνται ευρέως σε πεδία ημιαγωγών.

Τα υψηλής ποιότητας χαρακτηριστικά τουΔαχτυλίδια στήριξης επικαλυμμένων με SICΔιαδραματίζετε πολύ σημαντικό ρόλο στην επιταξιακή ανάπτυξη των συστατικών ημιαγωγών τρίτης γενιάς.

Διατήρηση της ομοιομορφίας θερμοκρασίας: Οι δακτύλιοι στήριξης με επίστρωση SiC έχουν εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα και μπορούν να παρέχουν ομοιόμορφη κατανομή θερμοκρασίας κατά την επιταξιακή ανάπτυξη. Αυτό βοηθά στη μείωση των θερμικών κλίσεων και των τάσεων στην επιφάνεια του πλακιδίου, βελτιώνοντας έτσι την ποιότητα του επιταξιακού στρώματος.

Ακραία χημική σταθερότητα: Κατά τη διάρκεια της επιταξιακής διαδικασίας ανάπτυξης,Δαχτυλίδια στήριξης επικαλυμμένων με SICείναι σε θέση να αντισταθούν στη χημική επίθεση από τα αέρια αντίδρασης, να επεκτείνουν τη διάρκεια ζωής των δακτυλίων υποστήριξης και να διατηρήσουν την ακεραιότητα της διαδικασίας. Αυτή η χημική σταθερότητα συμβάλλει στη μείωση του κινδύνου μόλυνσης και στη βελτίωση της καθαρότητας και της απόδοσης των συσκευών ημιαγωγών.

Ακριβής Τοποθέτηση: Οι δακτύλιοι στήριξης με επίστρωση SiC μπορούν να διατηρήσουν την ακριβή τοποθέτηση της γκοφρέτας, η οποία είναι κρίσιμη για την επίτευξη ομοιόμορφης εναπόθεσης στρώσης. Αυτή η ακριβής τοποθέτηση βοηθά στη διασφάλιση της συνέπειας του πάχους και της ποιότητας του επιταξιακού στρώματος.

Βασικές φυσικές ιδιότητες της επικάλυψης CVD SiC:

Κατάστημα παραγωγής ημιαγωγών VeTek:

Επισκόπηση της αλυσίδας βιομηχανίας επιταξίας chip semiconductor chip: