Υποδοχέας Epi με επικάλυψη SiC

Μπορείτε να είστε σίγουροι ότι θα αγοράσετε το SiC Coated Epi Susceptor από το εργοστάσιό μας.

Το Vetek Semiconductor SIC Coated EPI Sensceptor είναι επιταξιακό βαρέλι είναι ένα ειδικό εργαλείο για την επιταξιακή διαδικασία ανάπτυξης ημιαγωγών με πολλά πλεονεκτήματα:

● Αποτελεσματική παραγωγική ικανότητα: Το SIC επικαλυμμένο με το SIC του Vetek Semiconductor μπορεί να φιλοξενήσει πολλαπλές πλακές, καθιστώντας δυνατή την επιθετική ανάπτυξη πολλαπλών πλακών ταυτόχρονα. Αυτή η αποτελεσματική παραγωγική ικανότητα μπορεί να βελτιώσει σημαντικά την αποτελεσματικότητα της παραγωγής και να μειώσει τους κύκλους και το κόστος παραγωγής.

● Βελτιστοποιημένος έλεγχος θερμοκρασίας: Το SIC SEFECTOR του EPI SEPECEPTOR είναι εξοπλισμένος με ένα προηγμένο σύστημα ελέγχου θερμοκρασίας για τον ακριβή έλεγχο και τη διατήρηση της επιθυμητής θερμοκρασίας ανάπτυξης. Ο σταθερός έλεγχος της θερμοκρασίας βοηθά στην επίτευξη ομοιόμορφης επιταξιακής ανάπτυξης και στη βελτίωση της ποιότητας και της συνοχής του επιταξιακού στρώματος.

● Ομοιόμορφη κατανομή ατμόσφαιρας: Το SiC Coated Epi Susceptor παρέχει ομοιόμορφη κατανομή της ατμόσφαιρας κατά την ανάπτυξη, διασφαλίζοντας ότι κάθε γκοφρέτα εκτίθεται στις ίδιες συνθήκες ατμόσφαιρας. Αυτό βοηθά στην αποφυγή διαφορών ανάπτυξης μεταξύ των γκοφρετών και βελτιώνει την ομοιομορφία του επιταξιακού στρώματος.

● Αποτελεσματικός έλεγχος ακαθαρσιών: Ο σχεδιασμός Epi Susceptor με επίστρωση SiC βοηθά στη μείωση της εισαγωγής και της διάχυσης ακαθαρσιών. Μπορεί να παρέχει καλή στεγανοποίηση και έλεγχο της ατμόσφαιρας, να μειώσει την επίδραση των ακαθαρσιών στην ποιότητα του επιταξιακού στρώματος και, συνεπώς, να βελτιώσει την απόδοση και την αξιοπιστία της συσκευής.

● Ανάπτυξη ευέλικτης διαδικασίας: Το Epi Susceptor έχει ευέλικτες δυνατότητες ανάπτυξης διεργασιών που επιτρέπουν γρήγορη προσαρμογή και βελτιστοποίηση των παραμέτρων ανάπτυξης. Αυτό δίνει τη δυνατότητα σε ερευνητές και μηχανικούς να διεξάγουν ταχεία ανάπτυξη και βελτιστοποίηση διεργασιών για την κάλυψη των επιταξιακών αναγκών ανάπτυξης διαφορετικών εφαρμογών και απαιτήσεων.