Νέα της βιομηχανίας

Η επίστρωση CVD TAC είναι μια διαδικασία για το σχηματισμό μιας πυκνής και ανθεκτικής επίστρωσης σε ένα υπόστρωμα (γραφίτη). Αυτή η μέθοδος περιλαμβάνει την εναπόθεση TaC στην επιφάνεια του υποστρώματος σε υψηλές θερμοκρασίες, με αποτέλεσμα μια επίστρωση καρβιδίου του τανταλίου (TaC) με εξαιρετική θερμική σταθερότητα και χημική αντοχή.

Καθώς η διαδικασία καρβιδίου του πυριτίου (SiC) 8 ιντσών ωριμάζει, οι κατασκευαστές επιταχύνουν τη μετατόπιση από τις 6 ίντσες στις 8 ίντσες. Πρόσφατα, η ON Semiconductor και η Resonac ανακοίνωσαν ενημερώσεις για την παραγωγή SiC 8 ιντσών.

Αυτό το άρθρο παρουσιάζει τις τελευταίες εξελίξεις στον πρόσφατα σχεδιασμένο αντιδραστήρα CVD θερμού τοιχώματος PE1O8 της ιταλικής εταιρείας LPE και την ικανότητά του να εκτελεί ομοιόμορφη επιταξία 4H-SiC σε 200mm SiC.

Με την αυξανόμενη ζήτηση για υλικά SIC στα ηλεκτρονικά ισχύος, την οπτικοηλεκτρονική και σε άλλους τομείς, η ανάπτυξη της τεχνολογίας SIC μονής κρυστάλλων θα αποτελέσει βασικό τομέα της επιστημονικής και τεχνολογικής καινοτομίας. Ως πυρήνας του εξοπλισμού SIC ενιαίου κρυστάλλου, ο σχεδιασμός του θερμικού πεδίου θα συνεχίσει να λαμβάνει εκτεταμένη προσοχή και εμπεριστατωμένη έρευνα.