Σωλήνας διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας

Ο σωλήνας διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας VeTek Semiconductor έχει τα χαρακτηριστικά υψηλής καθαρότητας, υψηλής αντοχής στη θερμότητα, υψηλής αντοχής στη διάβρωση και χαμηλού συντελεστή διαστολής. Αυτά τα χαρακτηριστικά επιτρέπουν στον σωλήνα διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας να αντέχει στο περιβάλλον της διαδικασίας ανόπτησης οξείδωσης πλακών ημιαγωγών χωρίς παραμόρφωση ή ζημιά.

Ο σωλήνας διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας VeTek Semiconductor's έχει καθαρότητα πάνω από 99,998%, διασφαλίζοντας ότι δεν θα υπάρχει μόλυνση της γκοφρέτας κατά τη διαδικασία προετοιμασίας της γκοφρέτας.

Εφαρμογή του σωλήνα διάχυσης χαλαζία στη διαδικασία διάχυσης οξείδωσης ημιαγωγών

Η εξαιρετική θερμική απόδοση του σωλήνα διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας είναι πολύ σημαντική στη διαδικασία οξείδωσης. Ο σωλήνας διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας μπορεί να αντέξει θερμοκρασίες έως και 1250°C κατά τη θερμική οξείδωση και την ανόπτηση, εξασφαλίζοντας ομαλή επεξεργασία του πλακιδίου. Επιπλέον, οι μονωτικές ιδιότητες και η υψηλή θερμική αντίσταση του σωλήνα διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας εξασφαλίζουν τελικά τη συνοχή της επεξεργασίας της τιμής της γκοφρέτας.

Ο σωλήνας διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας VeTek Semiconductor είναι ιδανικός για επεξεργασία γκοφρέτας

Εκτός από την οξείδωση, η ανόπτηση είναι μια άλλη σημαντική διαδικασία στην κατασκευή γκοφρετών ημιαγωγών. Με τη θέρμανση της γκοφρέτας σε μια συγκεκριμένη θερμοκρασία και την ψύξη της με ελεγχόμενο ρυθμό για ένα χρονικό διάστημα, σκοπός είναι να βελτιωθεί η μικροδομή και η απόδοση του υλικού. Το κλειδί σε αυτή τη διαδικασία είναι ο ακριβής έλεγχος της θερμοκρασίας - πρέπει να είναι αρκετά υψηλή ώστε να επιτρέπει στα άτομα να αναδιατάσσονται, αλλά όχι πολύ υψηλή για να αποφευχθεί η μη αναστρέψιμη ζημιά. Ο χρόνος διατήρησης επιτρέπει στα άτομα του υλικού να κινούνται και να αναδιατάσσονται, γεγονός που βοηθά στην εξάλειψη των ελαττωμάτων του πλέγματος, στην αύξηση του μεγέθους κόκκων κ.λπ. Το στάδιο ψύξης της διαδικασίας ανόπτησης είναι επίσης πολύ κρίσιμο και ο ρυθμός ψύξης μπορεί να επηρεάσει σημαντικά την τελική κρυσταλλική δομή και απόδοση.

Το VeTek Semiconductor High Quartz Diffusion Tube παρέχει την απαιτούμενη θερμική σταθερότητα για τη διαδικασία ανόπτησης, επιτρέποντας στη γκοφρέτα να ανόπτεται ομοιόμορφα. Ταυτόχρονα, η εξαιρετική αντίσταση θερμικών κραδασμών του High Purity Quartz Diffusion Tube εξασφαλίζει τη σταθερότητά του στους γρήγορους κύκλους θέρμανσης και ψύξης κατά τη διαδικασία ανόπτησης γκοφρέτας, έτσι ώστε να είναι εγγυημένη η διάρκεια ζωής και η αξιοπιστία του κατά τη διαδικασία ανόπτησης.

Εκτός από τα παραπάνω πλεονεκτήματα, το VeTek Semiconductor High Quartz Diffusion Tube έχει επίσης υψηλή διαφάνεια UV. Μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την παρακολούθηση και την επιθεώρηση της διαδικασίας επεξεργασίας πλακιδίων μέσω υπεριώδους φωτός, βελτιώνοντας έτσι την αξιοπιστία της τελικής συσκευής ημιαγωγών.

Οι πραγματικές απαιτήσεις των διαφορετικών διεργασιών ημιαγωγών είναι διαφορετικές. Προκειμένου να ανταποκριθούμε σε αυτές τις διαφορετικές ανάγκες, δεσμευόμαστε πάντα να παρέχουμε στους πελάτες υψηλής προσαρμογής προϊόντα σωλήνων διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας για να ανταποκρίνονται στις απαιτήσεις του σεναρίου χρήσης του τελικού χρήστη. Οι υπηρεσίες προσαρμογής πελατών μας περιλαμβάνουν διάφορες δομές του ίδιου του σωλήνα διάχυσης χαλαζία υψηλής καθαρότητας, διάφορες φλάντζες και άλλες διαμορφώσεις. Είτε πρόκειται για μικρής κλίμακας Ε&Α είτε για μαζική παραγωγή μεγάλης κλίμακας, είμαστε ικανοί. Ανυπομονώ για το ερώτημά σας και τη δημιουργία μιας μακροπρόθεσμης συνεργασίας μαζί σας.

Κατάστημα παραγωγής VeTek Semiconductor：