Gan στον δέκτη EPI

Ως επαγγελματίαςκατασκευαστής ημιαγωγώνΣτην Κίνα,Είναι ημιαγωγός Gan στον δέκτη EPIαποτελεί βασικό στοιχείο στη διαδικασία παρασκευήςGan στο Sicσυσκευές, και η απόδοσή του επηρεάζει άμεσα την ποιότητα του επιταξιακού στρώματος. Με την ευρεία εφαρμογή του GAN σε συσκευές SIC σε ηλεκτρονικά ηλεκτρικά, συσκευές RF και άλλα πεδία, οι απαιτήσεις γιαΈτσι ο δέκτης EPIθα γίνει υψηλότερο και υψηλότερο. Εστιάζουμε στην παροχή της τελικής τεχνολογίας και των λύσεων προϊόντων για τη βιομηχανία ημιαγωγών και χαιρετίζει τη διαβούλευση σας.

Γενικά, οι ρόλοι του GAN στο SIC EPI Sensceptor στην Επεξεργασία Semiconductor είναι ως ακόλουθοι:

● Δυνατότητα επεξεργασίας υψηλής θερμοκρασίας: Το GAN στο SIC EPI Sensceptor (GAN με βάση το δίσκο επιταξιακής ανάπτυξης του πυριτίου) χρησιμοποιείται κυρίως στην επιταξιακή διαδικασία ανάπτυξης του νιτριδίου γαλλίου (GAN), ειδικά σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας. Αυτός ο επιταξιακός δίσκος ανάπτυξης μπορεί να αντέξει εξαιρετικά υψηλές θερμοκρασίες επεξεργασίας, συνήθως μεταξύ 1000 ° C και 1500 ° C, καθιστώντας την κατάλληλη για την επιταξιακή ανάπτυξη των υλικών GaN και την επεξεργασία υποστρωμάτων καρβιδίου πυριτίου (SIC).

● Εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα: Το SIC EPI Sensceptor πρέπει να έχει καλή θερμική αγωγιμότητα για να μεταφέρει ομοιόμορφα τη θερμότητα που παράγεται από την πηγή θέρμανσης στο υπόστρωμα SIC για να εξασφαλίσει ομοιομορφία θερμοκρασίας κατά τη διάρκεια της διαδικασίας ανάπτυξης. Το καρβίδιο του πυριτίου έχει εξαιρετικά υψηλή θερμική αγωγιμότητα (περίπου 120-150 β/mk) και το GAN στο SIC Epitaxy Sensceptor μπορεί να διεξάγει θερμότητα πιο αποτελεσματικά από τα παραδοσιακά υλικά όπως το πυρίτιο. Αυτό το χαρακτηριστικό είναι ζωτικής σημασίας στη διαδικασία επιταξιακής ανάπτυξης νιτριδίου του γαλλίου, επειδή βοηθά στη διατήρηση της ομοιομορφίας της θερμοκρασίας του υποστρώματος, βελτιώνοντας έτσι την ποιότητα και τη συνέπεια της μεμβράνης.

● Αποτρέψτε τη ρύπανση: Η διαδικασία επεξεργασίας υλικών και επιφανείας του GAN στο SIC EPI Sensceptor πρέπει να είναι σε θέση να αποτρέψει τη ρύπανση του περιβάλλοντος ανάπτυξης και να αποφευχθεί η εισαγωγή ακαθαρσιών στο επιταξιακό στρώμα.

Ως επαγγελματίας κατασκευαστής τουGan στον δέκτη EPI, Πορώδης γραφίτηςκαιΠλάκα επίστρωσης TACΣτην Κίνα, η Vetek Semiconductor επιμένει πάντα στην παροχή προσαρμοσμένων υπηρεσιών προϊόντων και δεσμεύεται να παρέχει στον κλάδο με κορυφαίες λύσεις τεχνολογίας και προϊόντων. Ανυπομονούμε ειλικρινά για τη διαβούλευση και τη συνεργασία σας.

CVD SIC COSTATIO

Βασικές φυσικές ιδιότητες της επίστρωσης CVD

Είναι ημιαγωγός Gan στα καταστήματα παραγωγής SIC Epi Sensceptor