Υπηρεσία καθαρισμού εξαρτημάτων γραφίτη επίστρωσης CVD SiC

1. Προκλήσεις που μπορεί να αντιμετωπίζετε

• Στρώμα AlN που είναι δύσκολο να αφαιρεθεί:Ο θερμικός καθαρισμός στους 1300°C εξακολουθεί να μην μπορεί να χαράξει αποτελεσματικά το υπολειπόμενο στρώμα AlN.

• Επαναλαμβανόμενο εφέ μνήμης:Το φαινόμενο μνήμης επιφάνειας προκαλεί ασταθή ροή αερίου στον αντιδραστήρα, επηρεάζοντας τη συνέπεια της διαδικασίας.

• Κύκλος καθαρισμού Impacts Διακίνηση:Τυπικά, κάθε 16 κύκλοι διεργασίας (4–5 υποδοχείς) χρειάζονται εξωτερικό καθαρισμό.

• Ανησυχία σχετικά με την καταστροφή της δαπανηρής επίστρωσης:Η έλλειψη εμπειρίας στον εσωτερικό χημικό καθαρισμό κάνει τους χειριστές να διστάζουν να επιχειρήσουν επιθετικό καθαρισμό.

2. Η λύση μας – Σχεδιασμένη για διεργασίες GaN / AlN / AlGaN

• Επαγγελματικός καθαρισμός:Προσαρμοσμένη διαδικασία που αναπτύχθηκε ειδικά για εξαρτήματα γραφίτη με επικάλυψη CVD SiC. Δεν απαιτείται χημικός τύπος από τον πελάτη.

• Ασφάλεια επίστρωσης:Προστατεύει αυστηρά την επίστρωση CVD SiC 100 μm. Απόλυτη μηδενική απώλεια πάχους μετά τον καθαρισμό.

• Επαληθεύσιμα αποτελέσματα:Πλήρες Πιστοποιητικό Ανάλυσης (COA) που καλύπτει πέντε βασικές διαστάσεις. Στοιχεία έτοιμα για αρχειοθέτηση και ποιοτικό έλεγχο.

3. Πέντε βασικά κριτήρια αποδοχής

Αυστηρά ευθυγραμμισμένο με τις κρίσιμες απαιτήσεις των χρηστών επιταξίας ημιαγωγών:

1. Μηδενική απώλεια επίστρωσης– Το πάχος επίστρωσης SiC δεν μειώνεται ποτέ μετά τον καθαρισμό (επαλήθευση σύγκρισης πάχους πριν/μετά).

2. Χωρίς παραμόρφωση επιφάνειας– Η επιπεδότητα και η γεωμετρική ακρίβεια ελέγχονται αυστηρά για να διασφαλιστεί ότι δεν υπάρχει φυσική παραμόρφωση.

3. Εξάλειψη του εφέ μνήμης– Η ανάλυση XPS για το υπόλοιπο Al/Ga επιβεβαιώνει την πλήρη αφαίρεση των πηγών εφέ μνήμης.

4. Μηδενικό υπόλειμμα μετάλλου– Η δοκιμή ICP-MS για Fe, Cu, Ni και άλλα μέταλλα επαληθεύει μηδενικές υπολειμματικές μεταλλικές ακαθαρσίες.

5. Χωρίς περίσσεια σωματιδίων– Η δοκιμή σωματιδίων QIII και η επαλήθευση καθαριότητας αποτρέπουν την αστάθεια ροής αερίου που προκαλείται από υπολειμματικά σωματίδια.

4. Επιθεώρηση Παράδοσης & Έκθεση COA

Κάθε παρτίδα παραδίδεται με πλήρη δεδομένα επαλήθευσης σε πέντε βασικές διαστάσεις:

5. Ισχύοντα Προϊόντα & Ιστορικό Διαδικασιών

Παράμετροι προϊόντος

Διαδικασία εξυπηρέτησης

1. Έρευνα– Αποστολή ανταλλακτικών φωτογραφιών / μοντέλου / ποσότητας για αξιολόγηση.

2. Παράθεση– Τεχνική αξιολόγηση και αναλυτική πρόταση καθαρισμού με προσφορά.

3. Αποστολή– Αποστολή ανταλλακτικών σε εμάς ή κανονίστε την υπηρεσία παραλαβής.

4. Καθαρισμός– Επαγγελματικός καθαρισμός + πλήρης έλεγχος πολλαπλών διαστάσεων.

5. Έκθεση– Εκδόθηκε η έκθεση COA και επιστράφηκαν καθαρισμένα εξαρτήματα.

6. Παρακολούθηση– Παρακολούθηση εφέ και συνεχής τεχνική υποστήριξη.

6. Γιατί να επιλέξετε την υπηρεσία καθαρισμού VETEK;

Το VETEK συνδυάζει τη βαθιά τεχνογνωσία στην τεχνολογία επίστρωσης CVD SiC με εξειδικευμένες δυνατότητες καθαρισμού για υποδοχείς γραφίτη υψηλής αξίας. Κατανοούμε την κρίσιμη σημασία της ακεραιότητας της επίστρωσης, του ελέγχου των σωματιδίων και της καθαρότητας της διεργασίας στην επιταξία GaN/AlN. Η υπηρεσία μας έχει σχεδιαστεί για πελάτες που απαιτούν απόλυτη ασφάλεια για ακριβές επικαλύψεις CVD SiC, ενώ παράλληλα επιλύει πλήρως τα προβλήματα της μνήμης και της αστάθειας ροής αερίου.

· Διατίθεται δοκιμαστικός καθαρισμός για επαλήθευση μικρής παρτίδας

· Η πλήρης αναφορά COA παρέχεται με κάθε παράδοση

· Μηδενικός κίνδυνος ζημιάς στην επίστρωση ή νέας μόλυνσης

· Επαγγελματικό · Ασφαλές · Επαληθεύσιμο