Πορώδης γραφίτης με επικάλυψη καρβιδίου τανταλίου (TaC) για ανάπτυξη κρυστάλλων SiC

Ο πορώδες γραφίτης με επικάλυψη καρβιδίου τανταλίου VeTek Semiconductor Semiconductor VeTek έχει σχεδιαστεί για να βελτιστοποιεί το περιβάλλον ανάπτυξης κρυστάλλων SiC μέσω τεσσάρων βασικών τεχνικών λειτουργιών:

● Φιλτράρισμα συστατικών ατμών: Η ακριβής πορώδης δομή λειτουργεί ως φίλτρο υψηλής καθαρότητας, διασφαλίζοντας ότι μόνο οι επιθυμητές φάσεις ατμού συμβάλλουν στον σχηματισμό κρυστάλλων, βελτιώνοντας έτσι τη συνολική καθαρότητα.

● Έλεγχος θερμοκρασίας ακριβείας: Η επίστρωση TaC ενισχύει τη θερμική σταθερότητα και την αγωγιμότητα, επιτρέποντας πιο ακριβείς ρυθμίσεις των τοπικών κλίσεων θερμοκρασίας και καλύτερο έλεγχο των ρυθμών ανάπτυξης.

● Κατευθυνόμενη κατεύθυνση ροής: Ο δομικός σχεδιασμός διευκολύνει την καθοδηγούμενη ροή ουσιών, διασφαλίζοντας ότι τα υλικά παραδίδονται ακριβώς εκεί που χρειάζεται για την προώθηση της ομοιόμορφης ανάπτυξης.

● Αποτελεσματικός έλεγχος διαρροών: Το προϊόν μας παρέχει εξαιρετικές ιδιότητες σφράγισης για τη διατήρηση της ακεραιότητας και της σταθερότητας της ατμόσφαιρας ανάπτυξης.

Φυσικές ιδιότητες επικάλυψης TaC

Σύγκριση με τον παραδοσιακό γραφίτη

Επικάλυψη καρβιδίου τανταλίου (TaC) σε μικροσκοπική διατομή

Αντίκτυπος εφαρμογής: Ελαχιστοποίηση ελαττωμάτων στη διαδικασία PVT

Στη διαδικασία PVT (Physical Vapor Transport), η αντικατάσταση του συμβατικού γραφίτη με τον πορώδες γραφίτη με επίστρωση TaC της VeTek αντιμετωπίζει άμεσα τα κοινά ελαττώματα που φαίνονται στο διάγραμμα:

● Eπεριορίζοντας τα εγκλείσματα άνθρακα: Λειτουργώντας ως φράγμα στα στερεά σωματίδια, εξαλείφει αποτελεσματικά τα εγκλείσματα άνθρακα και μειώνει τους μικροσωλήνες που είναι συνηθισμένοι στα παραδοσιακά χωνευτήρια.

● Διατήρηση της δομικής ακεραιότητας: Αποτρέπει το σχηματισμό λακκούβων και μικροσωληνίσκων κατά την μακροχρόνια ανάπτυξη μονοκρυστάλλου SiC.

● Υψηλότερη Απόδοση & Ποιότητα: Σε σύγκριση με τα παραδοσιακά υλικά, τα εξαρτήματα με επίστρωση TaC εξασφαλίζουν ένα καθαρότερο περιβάλλον ανάπτυξης, με αποτέλεσμα σημαντικά υψηλότερη ποιότητα κρυστάλλου και απόδοση παραγωγής.